THEIA超快平面原子层沉积系统

THEIA 超快平面原子层沉积系统

THEIA 是一款高性能，稳定，灵活，可靠且安全的研发型原子层沉积系统，兼具工业生产解决方案的优势。THEIA 可进行升级改造，从而满足科学研究的各种需求，并实现从“研发”到“生产”的无缝衔接。

产品规格

1. 专利技术 SMFD-ALDTM 超快沉积：12-30 nm/min

2. 低维护周期：平均每 50 μm 沉积后维护一次

3. 专利阀门：可实现 <1ms 开关控制，寿命可达 1 亿次循环，在 220℃ 下长期稳定工作

4. 薄膜不均匀度 <1%

5. 可容纳 3 片 75-300mm 基片，300×300×10mm 的腔室

产品特点

THEIA 解决了困扰 ALD 工艺多年以来的问题：效率与维护。ALD 虽然拥有较好的膜厚控制与均一性，但因为效率不高，市场容量仍然低于 CVD。Forge Nano 拥有 SMFD-ALDTM 超快沉积技术，可实现最快 12-30nm/min 的沉积效率，将 ALD 沉积效率提升到新的高度。同时实现前驱体高利用率以及低维护成本，与 CVD 相比，THEIA 的集成减排设计可以实现污染物“零排放”，避免了环境污染问题，节约大量成本，为 ALD 工艺提供了新的参考标准。

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