苏大维格 Nanocrystal 大幅面纳米光刻系统

Nanocrystal 大幅面纳米光刻系统是专门为纳米光学结构制备而设计的无掩模光刻系统，配置了可连续变空频的位相干涉系统，实现亚波长光学结构的亚纳米调控精度制备。

Nanocrystal 大幅面纳米光刻系统采用355nm紫外光源、大数值孔径（NA=0.9）干涉光学系统、百微米像素视场范围，满足150nm-5μm范围微纳光学结构制备，配置3D导航聚焦、飞行高速曝光模式，是大幅面亚波长结构制备的优秀手段。可应用于光子晶体、衍射光学器件、光场调控显示、光学超表面等研究和器件制备。

应用场景

  >>超材料结构特性研究 

  >>纳米透镜、全息透镜制备

  >>裸眼3D显示的纳米导光板

  >>光子晶体阵列制备

  >>裸眼3D显示的纳米尺度背光源研究

  >>其他复杂纳米结构的光刻研究

  >>LED/OLED纳米衬底

  >>全息图

  >>衍射光学元件

  >>连续可变焦距菲涅尔透镜阵列研究

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