泽攸科技DMD无掩膜光刻机ZML10A/ZML100A/ZML200A

ZML系列无掩膜光刻机

机型多样化
高效、灵活、高分辨率和高套刻精度

特征尺寸0.5μm | 高精度步进光刻

泽攸科技 ZML 系列 DMD 无掩膜光刻机，采用先进数字微镜直写技术，无需传统掩膜版即可灵活完成任意微纳图形的精准曝光，加工精度出色、成像稳定。设备采用紧凑设计，搭配智能自动对焦与直观操作系统，上手简单、使用高效，能大幅缩短研发周期、降低制版成本，广泛适配微流控、MEMS、功能薄膜、二维材料器件等场景，是实验室与小批量试制中兼顾高精度、高灵活度与高性价比的理想微纳加工设备。

主要技术参数

全系覆盖，选择你心仪的无掩膜光刻机

应用案例

卓越的光刻技术满足您的各种要求

▲ 二维材料光刻电极（左）、光电探测器（右）

▲ 20mm×20mm半导体器件，四层套刻，最小线宽6μm

▲ 微流控芯片（左）、微流控阳模（右）

▲ DMD紫外光刻实现套刻功能

▲ 碲纳米网格刻蚀后套刻电极

▲ 灰度光刻菲涅尔透镜【3D灰度光刻实现菲涅尔透镜，从扫面电镜的截面图中可以看出台阶连续变化】

▲ DMD紫外光与电子束联合光刻【使用的机型为ZML10A 和 ZEL304G】

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