直写光刻机

• 详细介绍

• 上海麦科威MKW-200是一个高价值的激光直写光刻机，面向大学和研究机构寻求扩大他们的能力。

  它用亚微米像素分辨率的405nm激光在光敏抗蚀剂涂层表面大面积书写。你可以写任何东西，从光掩模到基础科学或应用科学的研究原型，集成相机可以用来调整现有的功能写。

  我们对其进行了优化，以便于使用和简单维护，最大限度地利用现成的部件，而不牺牲书写质量或功能。

  直接激光书写光刻

  直接激光光刻技术通过消除光掩模生产对外部供应商的依赖，大大降低了微流体、微电子、微机械和材料科学研究等领域的成本和执行时间。

  
  

  UV-Writer随其控制软件在PC上提供。它允许您从GDSII文件的单元格或直接从PNG图像导入要写入的设计。

  一切都是通过一个用户友好的图形界面来完成的，它允许您在执行之前预览要编写的设计。

  除了对每个设计应用旋转、反射、反转或比例调整等变换外，还可以在单个过程中组合多个设计。

  在确定了设计方案后，采用了所包含的工作台控制模块和共焦显微镜。

  使用它们，您可以设置基片上工艺的原点位置和感光表面上的焦平面。

  接下来执行该过程并将设计写在表面上。

  
  

  
  

  技术指标：

  XY工作台

  典型写入速度：100-120 mm/s

  面积：100x92 mm^2

  最小面积：没有最小面积

  单向定位台阶：X=0.16µm，Y=1.00µm

  慢速X轴上的机械噪声：<1µm

  快速Y轴上的机械噪声：<1µm

  多层对准精度：5-10µm（可选旋转台，便于对准）

  实际最小特征尺寸：6-15µm，取决于特征（示例见下图）

  
  

  软件

  支持的格式：PNG、GDSII

  在软件转换：，旋转、反射、反转、重缩放、添加边框

  -可以在一个进程中编写来自不同文件的多个设计

  -通过3点线性或4点双线性聚焦测量进行倾斜/翘曲基板补偿

  -全床曲率补偿的网格型标定

  
  

  光学

  -激光波长：405nm（可选375nm）

  -激光聚焦、对准和检测用共焦显微镜

  -二次独立黄色照明

  -激光光斑尺寸可以使用工业标准显微镜物镜改变

  
  

  精度：

  -精细：0.8µm

  -介质：2µm

  -粗粒：5µm

  
  

  大面积包含目标的有效书写速度（单向书写）：

  -精细：1.7 mm^2/min

  -中等：4.25 mm^2/min

  -粗糙度：10.6 mm^2/min

  在双向写入模式下速度加倍。

直写光刻机信息由上海麦科威半导体技术有限公司为您提供，如您想了解更多关于直写光刻机报价、型号、参数等信息，欢迎来电或留言咨询。