RAITH ATHOS激光光刻系统

ATHOS激光光刻系统是专为全息应用设计的激光光刻系统系列。凭借最高分辨率、最佳性能、灰度能力和高通量，它是全息图、OVD、菲涅尔透镜等多种设备生成的最佳解决方案。

ATHOS激光光刻系统特别之处：

没有侧缝

得益于 RAITH 的 InfiniTrace 技术和 12 位动态范围（4096 灰度），ATHOS Nano 消除了横向拼接错误。你可以期待超光滑的表面和无缝过渡。

高级灰度平版印刷

RapidTrace技术集成了优异的舞台机械、顶级光学和实时快速灰度曝光——使ATHOS Rapid能够比以往更快更高效地书写复杂图案。

设计用于挑战基底

借助基于混合自动对焦策略的OptiFly技术，ATHOS即使在最复杂的表面也能保持最佳对焦，适用于各种基材。

近电子束光刻级分辨率

ATHOS Nano 采用近电子束光刻（EBL）分辨率，无需满足 EBL 系统的复杂性和基础设施需求。

HoloSuite：RAITH先进的设计软件设计

HoloSuite，我们先进的全息设计软件，定义了全息主设计的新标准。它简化了制作复杂灰度全息图案的过程，只需几次点击。优秀的处理能力支持实时数据传输和即时曝光。

该设计软件拥有多样化的库，能够创建复杂且安全的全息设计。

RAITH ATHOS激光光刻系统信息由华兆科技（广州）有限公司为您提供，如您想了解更多关于RAITH ATHOS激光光刻系统报价、型号、参数等信息，欢迎来电或留言咨询。