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苏大维格 Microlab 多功能直写光刻系统
参考价：面议
品牌与制造商：苏大维格 产地：中国 型号：Microlab 官方样本下载：来电或留言获取样本
数据更新时间：2026-09-30
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产品官方概述
Microlab 多功能直写光刻系统是专门为基础研究而设计的多功能直写光刻系统，配置405nm长寿命光源，能够在多种近紫外光刻胶制备几乎任何需要的微结构，应用例如实验型掩模版、微流控芯片、二维材料电极、微光学、MEMS等，选配355nm紫外光源，适用于SU-8等特殊光刻胶工艺，选配位相干涉、偏振调控模块，可应用于衍射光学器件等研究制备。
以下内容综合自苏大维格官方技术规格及公开资料信息
官方技术参数
| 产地与供应商：国产 |
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