海德堡 µMLA 无掩模光刻系统

µMLA 无掩模光刻系统是一款基于稳健的 µPG 平台打造的优良桌面式无掩模光刻系统，它非常适合作为研发和快速原型制作的入门级工具，能够在多种应用中实现高精度微结构加工，包括微流控（如细胞分选器件、芯片实验室）、小规模掩模制作、微光学与微透镜阵列、传感器制造、MEMS，以及二维材料和扇出电极的图案化。

µMLA 无掩模光刻系统特点：

直接写入光刻技术

没有与面具相关的成本、工作量或安全风险

曝光质量

边缘粗糙度光栅模式 100 nm；矢量模式 30 nm；CD 均匀度 200 nm

曝光速度

90 分钟完成 4 英寸晶片

灰度平版印刷

灰度曝光功能是标准配置的一部分，最多可达到 256 级灰度

小足迹 

640 mm x 840 mm x 530 mm / 25″ x 33″ x 21″ – 体积最小的台式无掩膜光刻工具

灵活配置

可选择曝光波长；可选择光栅和矢量扫描模块

灵活使用

通过软件可轻松切换不同的分辨率和吞吐速度

方便用户

直观的软件和工具操作；易于处理小样品

即插即用设置

简化的即插即用式安装缩短了整体实施时间并节省了成本

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