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仪器简介:Woosin公司生产的MPECVD为一高效微波等离子体制备设备,可用于生长金刚石薄膜、碳纳米管、氮化硅、碳化硅等超硬膜,具有生长速度快、制备温度低、性价比高等优点,已有韩国、中国(含香港地区)等许多大学与研究机构使用。 应用领域: 1) Si3N4; 2) SiO2; 3) cubic BN or cBN; 4) SiC; 5) C3N4; 6) nano-crystalline diamonds or nc-diamonds; 7) diamond-like-carbon or DCL; 8) micro-crystalline silicon or m-silicon; 9) hexagonal BN or hBN; 10) carbon nanotubes or CNTs; 11) carbon nano-fibers or CNFs; 12) highly-oriented diamonds or HODs.技术参数:MWPECVD-RX: 1. DC Plasma CVD, RF Plasma CVD,Microwave Plsma CVD 2. Atmospheric Microwave Plasma Source 3. Large diameter(6") 4. Max. 6" Sample 5. Upto 900℃ heating 6. Double-wall, Stainless Steel Reaction Chamber 7. 2KW microwave power generator(standard) 主要特点:1.Diamond/CNT Growing 2.400mm OD Stainless Steel Chamber 3.4 inch Substrate for Diamond 4.6 inch Substrate for remote operation 5.RF/DC Plasma option
微波等离子体增强化学气相沉积系统(MPECVD),MPECVD-RX
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