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仪器简介:
- 快速热(退火)处理 -薄栅氧化反应 (纳米装置) -低共熔的黏结 (反应性金属黏结) -硅化物 构造 -硅化物联合构造
技术参数:
- 样品尺寸 : ~ 4", -温度控制 : Max. 1,000度(更高温度根据客户需要可选) -加热源(灯源):钨卤灯
-气体 流量精确控制:MFC控制 -真空泵 : 旋转泵 (多选 - TMP, Dry pump) -过程控制: 手动
主要特点:
该响应快速、高效快速退火,可以在很短时间内快速升温1000摄氏度,且在材料表面退火温度均匀;方便移动设计,温度控制方便,价格低廉。
快速退火炉 RTP,UTR
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