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仪器简介:
欧洲先进的无掩膜激光直写系统,zei小线宽可达 100nm,为MEMS, BioMEMS, Micro Optics, ASICs, Micro Fluidics, Sensors, CGHs等以及相关微纳米结构领域的科研工作者,提供强有力的手段!
加工线宽:zei小可达 100nm;
多种曝光模式: 2D曝光模式:构建二维纳米结构; 3D曝光模式:可加工三维纳米结构;
压电驱动平台配合精密自动驱动平台,具有更高的水平定位分辨率;
系统自动聚焦、纠斜、对准;
多功能试样夹具; 快速样品样品更换:<1秒;
专业图形设计软件:支持导入CAD设计软件,2D和3D随意简单设计;
激光直写系统,NanoLitho
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