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以往的椭偏仪是单点测试,因此要取得整面膜厚均匀性数据是需要N个小时的工作,而且最小的测量分辨率就是激光光斑大小,也就是说,无法取得微小区域的膜厚分布数据。
ME-210是采用独自开发的微小偏光阵列片来克服上述两大问题的设备。
ME-210能做的就是:
能以快速取得最大12inch基板上的膜厚分布
能以高分辨率取得微小区域的膜厚分布(设备最高分辨率为5.5um*5.5um)
设备软件具有模拟功能,因此能比对模拟值与实际值来评估成膜工艺
透明基板的膜厚测量
技术参数:
光源--typ,636nm,Class2
设备最高分辨率--5.5*5.5um
入射角--70°
测量再现性--膜厚0.1nm、折射率0.001
设备最块测量速度--5,000个点/min
载物台--标准φ8inch、选配φ12inch
PHL膜厚测量椭偏仪 ME-210(-T), ME-210(-T)
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