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GES5E全光谱椭偏仪基于椭圆偏振测试技术,采用先进的旋转补偿器,结合光纤专li技术将偏振光信号传输至分段光谱优化的高分辨率单色仪或阵列式多通道摄谱仪,测得线偏振光经过样品反射后的偏振态变化情况,并通过样品光学模型的建立,计算出单层或多层薄膜结构的厚度、折射率和消光系数,实现精确、快速、稳定的宽光谱椭偏测试。
SEMILAB成立于1989年,总部位于匈牙利布达佩斯,为生产、研发中心,客户遍布全球。在欧洲、和亚洲主要国家都设有分支机构, 在美国设有工厂和研发中心。SEMILAB拥有全球zui优秀的电学和光学表征技术,产品被广泛应用于光伏、半导体、科研以及平板测试领域。凭借先进的测试设备,为客户的生产和质量监控提供一套完整的测试方案,在行业中始终处于领xian地位。
公司建成后迅速发展, 自2004年以来相继收购了包括SemiTest、SSM、Sopra、QC Solution、AMS、SDI和Todival Solar在内的业内知名测试公司,同时囊获了IBM的JPV、AMAT的Boxes Cross、以及德国Basler公司的zhuan li技术。
随着市场的不断扩张,SEMILAB于2000年进入中国市场,6年后成立代表处,并于2009年在上海成立全资子公司“瑟米莱伯贸易(上海)有限公司”。子公司成立以来,业务量发展迅猛,于2010年成立了TSS寄售维修中心,并于次年在无锡新增了售后服务中心,上海公司随之成为亚洲最大的销售及售后服务中心。公司秉承专ye、团队、激情的文化理念,始终坚持为客户提供最hao的测试方案和完善的售后服务。
主要应用
光伏行业:晶硅电池减反膜、薄膜电池透明导电膜、非晶硅微晶硅薄膜电池、CIGS薄膜电池、CdTe薄膜电池、有机电池、染剂敏感太阳能电池
半导体行业:High-K、Low-K、金属、光刻工艺、半导体镀膜工艺、外延工艺
平板显示行业:TFT、OLED、LTPS、IGZO、彩色滤光片
光电行业:光波导、减反膜、III-V族器件、MEMS、溶胶凝胶
主要技术指标
测试速度:<1 sec (快速测试模式) <120 sec (高分辨率测试模式)
测量光谱分辨率:<0.5nm@633nm (高分辨率测试模式) <0.8nm@633nm (快速测试模式)
最大样品尺寸: 300mm
厚度测量范围:0.01nm-50um
厚度测试精度:0.02nm @120nm SiO2 on Si
折射率测试精度:0.002 @120nm SiO2 on Si
SEMILAB-全光谱椭偏仪GES5E 可用于晶硅电池减反膜、薄膜电池透明导电膜、非晶硅微晶硅薄膜电池、CIGS薄膜电池、CdTe薄膜电池、有机电池、染剂敏感太阳能电池,SEMILAB-全光谱椭偏仪GES5E
SEMILAB-全光谱椭偏仪GES5E 可用于晶硅电池减反膜、薄膜电池透明导电膜、非晶硅微晶硅薄膜电池、CIGS薄膜电池、CdTe薄膜电池、有机电池、染剂敏感太阳能电池信息由北京亚科晨旭科技有限公司为您提供,如您想了解更多关于SEMILAB-全光谱椭偏仪GES5E 可用于晶硅电池减反膜、薄膜电池透明导电膜、非晶硅微晶硅薄膜电池、CIGS薄膜电池、CdTe薄膜电池、有机电池、染剂敏感太阳能电池报价、型号、参数等信息,欢迎来电或留言咨询。
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