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日本 NS 离子蚀刻机 IBE
参考价：￥200万-500万
品牌：NS 产地：日本 型号：10IBE 样本：来电或留言获取样本
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参数
| 产地类别：进口 | 供应商性质：一般经销商 | 价格范围：200万-500万 |
| 供应商性质：总代理 | 产地类别：进口 |
产品介绍
图片仅供参考, 价格货期电议, 一切已实际成交合同为准
上海伯东日本原装进口 NS 离子束刻蚀机 10 IBE, 适用于实验室研究 8寸及以下单片的材料刻蚀. 离子束刻蚀机 10 IBE 可选配美国 KRi 考夫曼离子源或终点检测(监测当前气体成分, 监控刻蚀制程).
离子束刻蚀机 10 IBE 基本参数
型号 | 10 IBE |
|
应用 | 实验室研发,占地面积小 | |
内置 | 考夫曼型离子源 (或根据需求选择射频离子源) | |
基板尺寸 | φ2" 或 φ4" 或 φ6" 或 φ8"x 1枚 (可根据器件大小定制载台) | |
均匀性 | ≤±5% | |
刻蚀速率 | 硅片 20 nm/min | |
工艺气体 | Ar, O2, N2 | |
样品台 | 直接冷却（水冷）0-90 度旋转 |
离子束刻蚀机 10 IBE 组成
离子束刻蚀机 10 IBE 特性:
1. 干法刻蚀, 物理蚀刻, 纳米级别的刻蚀精度
2. 射频角度可以任意调整, 蚀刻可以根据需要做垂直, 斜面等等加工形状
3. 基板直接加装在直接冷却装置上,可以在低温环境下蚀刻.
4. 配置公转自转传输机构 ”Dry Chuck Planet ”, 使得样品可以得到比较均匀平滑的表面. 刻蚀均匀性 ≤±5%
5. 几乎满足所有材料的刻蚀, IBE 可用于反应离子刻蚀 RIE 不能很好刻蚀的材料
6. 可选配德国 Pfeiffer 分子泵和旋片泵
7. 机台设计使用半自动化(手动放置样品)操作流程
上海伯东 IBE 离子束刻蚀机可根据客户的要求进行定制. 离子束刻蚀作为干法蚀刻工艺中的微细加工被广泛应用. 由于是不伴随化学反应的物理蚀刻工艺, 因此不仅适用于Au, Pt, 磁性材料等难蚀刻材料的加工, 也适用于由多个金属膜形成的多层膜蚀刻工艺. 伯东公司超过 50年的离子刻蚀市场经验, 拥有庞大的安装基础和经过市场验证的刻蚀技术!
自 1970年至今, Hakuto 伯东已累计交付约 500套IBE离子束刻蚀机. 刻蚀机可配置德国 Pfeiffer涡轮分子泵.上海伯东也是美国 KRi 离子源中国总代理, KRi 离子源适用于各类真空设备, 实现离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 和离子束抛光 IBF 等工艺.
上海伯东版权所有, 翻拷必究！
若您需要进一步的了解详细信息
请联络上海伯东: 叶女士 M:******微信同号)
日本 NS 离子蚀刻机 IBE信息由伯东企业（上海）有限公司为您提供，如您想了解更多关于日本 NS 离子蚀刻机 IBE报价、型号、参数等信息，欢迎来电或留言咨询。
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