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TF200薄膜厚度测量系统利用薄膜干涉光学原理,对薄膜进行厚度测量及分析。用从深紫外到近红外可选配的宽光谱光源照射薄膜表面,探头同位接收反射光线。TF200根据反射回来的干涉光,用反复校准的算法快速反演计算出薄膜的厚度。测量范围1nm-3mm,可同时完成多层膜厚的测试。对于100nm以上的薄膜,还可以测量n和k值。
半导体(SiO2/SiNx、光刻胶、MEMS,SOI等)
LCD/TFT/PDP(液晶盒厚、聚亚酰胺ITO等)
LED (SiO2、光刻胶ITO等)
触摸屏(ITO AR Coating反射/穿透率测试等)
汽车(防雾层、Hard Coating DLC等)
医学(聚对二甲苯涂层球囊/导尿管壁厚药膜等)
型号
TF200-VIS
TF200-EXR
TF200-DUV
TF200-XNIR
波长范围
380-1050nm
380-1700nm
190-1100nm
900-1700nm
厚度范围
50nm-40um
50nm-300um
1nm-30um
10um-3mm
准确度1
2nm
1nm
10nm
精度
0.2nm
3nm
入射角
90℃
样品材料
透明或半透明
测量模式
反射/透射
光斑尺寸2
2mm
是否能在线
是
扫描选择
XY可选
注:1.取决于材料0.4%或2nm之间取较大者。
2.可选微光斑附件。
TF200光学膜厚仪, TF200
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