| 真空腔 | ~φ150*110mm耐划伤石英玻璃 | 溅射靶尺寸 | 靶材尺寸φ50*0.1-2mm (建议摩度>0.2mm |
| 真空泵 | 美国 Welch真空旋片泵 | 外形尺寸 | ~20kg |
| 电源 | 恒功率磁控DC溅射电源Max.20W，Max.100A，0-800VDC |
纳克微束离子溅射仪ISC-1000采用高性能旋片泵快速产生一个<1-2Pa的真空压强，通常真空时间小于3-5分钟。采用高品质恒功率磁控溅射电源，以确保恒定镀膜沉积速率。
磁控阴极的使用也大幅减少等离子体对样品的热影响和离子轰击损伤。特别适用于追求更高分辨率或温度敏感SEM电镜样品的喷金、喷铂等贵金属镀膜用途。触屏控制，即插即用。
参数
纳克微束离子溅射仪ISC-1000,ISC-1000
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