您好,欢迎您查看分析测试百科网,请问有什么帮助您的?
如果企业客服不在线,也可拨打400电话联系。或者发布求购信息
Talos
先进科技集于一身
Talos™ 是新一代 TEM 产品,致力于让用户迅速访问二维和三维数据,从而专注于研究发现。
Talos 的配置适合开展材料研究和生命科学研究,是一款融合了众多创新技术的多功能系统,能够在未来数年里满足您的研究需求。
Talos 可以在多个维度开展快速、精确、量化的材料表征分析,而且配备了全新的软件功能,能够改善成像效果和易用性。Talos 将出众的高分辨率 S/TEM 和 TEM 成像与行业领先的 EDS 性能(包括独一无二的 EDS 断层扫描技术)融为一体,能够以二维图像和三维容积的形式提供结构信息。创新的新软件拓宽了可以分析的材料范围,同时全新的 Ceta 16M 摄像头可迅速从大视场切换到原子级别。全新的压电工作台可确保实现无漂移成像和精确导航。而且,Talos 还预留了配件接口,可以配备特定于应用的原位样本支架以开展动态实验。
Talos透射电镜 ,Talos
Talos透射电镜 信息由赛默飞电子显微镜(原FEI)为您提供,如您想了解更多关于Talos透射电镜 报价、型号、参数等信息,欢迎来电或留言咨询。
JY/T 011-1996 透射电子显微镜方法通则
JB/T 5383-1991 透射电子显微镜技术条件
JB/T 9352-1999 透射电子显微镜 试验方法
JJG(地质) 1016-1990 透射电子显微镜检定规程
JJG(教委) 12-1992 透射电子显微镜检定规程
GB/T 18907-2002 透射电子显微镜选区电子衍射分析方法
BH GSO ISO 25498:2017 微束分析 分析电子显微镜 使用透射电子显微镜进行选区电子衍射分析
ISO/CD 25498:2023 微束分析 分析电子显微镜 使用透射电子显微镜进行选区电子衍射分析
ISO/DIS 25498:2024 微束分析 分析电子显微镜 使用透射电子显微镜进行选区电子衍射分析
JY/T 0581-2020 透射电子显微镜分析方法通则
OS GSO ISO 25498:2015 微束分析 分析电子显微镜 使用透射电子显微镜进行选区电子衍射分析
JB/T 5585-1991 透射电子显微镜分辨力测试方法
JB/T 5584-1991 透射电子显微镜放大率测试方法
JB/T 5586-1991 透射电子显微镜分类和基本参数
GSO ISO 25498:2015 微束分析 分析扫描电子显微镜 使用透射电子显微镜进行选区电子衍射分析
GB/T 35098-2018 微束分析 透射电子显微术 植物病毒形态学的透射电子显微镜鉴定方法
DB31/T 315-2004 透射电子显微镜放大倍率校准方法
BS ISO 19012-3:2015 显微镜. 显微物镜的命名. 光谱透射率
细胞说|多维组学与能量代谢技术主题研讨会
ASMS 2024布鲁克新品推介会
2024年第八届色谱网络研讨会
质谱新纪元 探索组学无限可能—2024组学技术前沿创新高峰论坛
Titan Krios G2透射电子显微镜
赛默飞(原FEI)Selectris和Selectris X成像过滤器
赛默飞300 kV Spectra S/TEM扫描透射电子显微镜Spectra 300 S/TEM
赛默飞(原FEI)Krios G4冷冻透射电子显微镜(cryo-TEM)
赛默飞(原FEI)Glacios 冷冻透射电镜
赛默飞(原FEI)Talos L120C TEM透射电子显微镜
赛默飞(原FEI)Talos F200C TEM透射电子显微镜
赛默飞(原FEI)Tundra 冷冻透射电子显微镜 (Cryo-TEM)
邀请函丨防腐院金属表面腐蚀微观表征技术研讨会
冷冻电镜(Cryo-EM)基础知识
赛默飞 宣布推出用于分析先进逻辑半导体的新型故障定位解决方案
赛默飞推出基于机器学习的Metrios AX S/TEM扫描透射显微镜
赛默飞世尔科技宣布推出新一代全自动 (S)TEM 计量解决方案,以提高半导体制造的生产力和数据质量保证
赛默飞推出Spectra Ultra透射电镜:先进材料表征飞跃进展
Copyright ©2007 ANTPedia, All Rights Reserved
京ICP备07018254号 京公网安备1101085018 电信与信息服务业务经营许可证:京ICP证110310号