脱脂 刻蚀

品牌: GATAN名称型号:精密刻蚀镀膜系统PECS II 685制造商: 美国GATAN公司经销商:欧波同有限公司免费咨询电话:800-8900-558售后服务电话:800-8900-558产品综合介绍:产品功能介绍  Gatan公司的精密刻蚀镀膜仪 (PECS™) II 是一款桌面型宽束氩离子抛光及镀膜设备。对于同一个样品,可在同一真空环境下完成抛光及镀......

图片仅供参考, 价格货期电议, 一切已实际成交合同为准伯东 Hakuto / NS 共同研发的离子束刻蚀机 IBE , 日本原装设计制造, 提供 4英寸, 6英寸, 8英寸干法, 纳米级别材料的表面刻蚀, 刻蚀均匀性 ≤±5%. 由于是不伴随化学反应的物理蚀刻工艺, IBE 刻蚀机几乎满足所有材料的刻蚀. 例如磁性材料, 黄金 Au, 铂 Pt, 合金等金属......

合金,是由两种或两种以上的金属与金属或非金属经一定方法所合成的具有金属特性的物质。一般通过熔合成均匀液体和凝固而得。根据组成元素的数目,可分为二元合金、三元合金和多元合金。产品综合介绍:产品功能介绍  Gatan公司的精密刻蚀镀膜仪 (PECS™) II 是一款桌面型宽束氩离子抛光及镀膜设备。对于同一个样品,可在同一真空环境下完成抛光及镀膜。品牌介绍  美国......

镀层是指为了好看或储藏而涂在某些物品上的金属表面涂上一层塑料,或者一层稀薄的金属或为仿造某种贵重金属,在普通金属的表面镀上这种贵重金属的薄层。复合镀层的制备是在镀液中加入一种或数种不溶性固体颗粒,使固体颗粒与金属离子共沉积的过程,它实际上是一种金属基复合材料。产品综合介绍:产品功能介绍  Gatan公司的精密刻蚀镀膜仪 (PECS™) II 是一款桌面型宽束......

矿物一般是自然产出且内部质点(原子、离子)排列有序的均匀固体。其化学成分一定并可用化学式表达。所谓自然产出是指地球中的矿物都是由地质作用形成。产品综合介绍:产品功能介绍  Gatan公司的精密刻蚀镀膜仪 (PECS™) II 是一款桌面型宽束氩离子抛光及镀膜设备。对于同一个样品,可在同一真空环境下完成抛光及镀膜。品牌介绍  美国Gatan公司成立于1964年......

SEM高速刻蚀子系统XENOS刻写子系统是一种允许设计图案数据并产生用于带电粒子束(例如用于半导体光刻应用或聚焦离子束系统的电子束)转向的相应偏转信号的系统。可以连接到传统的扫描电子显微镜、FIB或双光设备上,升级系统,在半导体或其他材料上......

湿法刻蚀工艺中混酸浓度检测CT-1Plus滴定仪

参考成交价格: 2.98万元[人民币]

禾工科仪 自动电位滴定仪

型号:湿法刻蚀工艺中混酸浓度检测CT-1Plus滴定仪

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在半导体及精密电子制造领域,湿法刻蚀工艺的精确控制直接关系到产品质量与性能。硝酸和氢氟酸作为常用的蚀刻液组分,其浓度配比直接影响刻蚀速率和效果,因此快速、准确测定混酸浓度成为许多企业质量控制的刚需。传统的手工滴定方法不仅操作繁琐、重复性差,更难以准确判断滴定终点,尤其在对氢氟酸和硝酸连续滴定的复杂体系中,极易出现误判,影响结果的准确性。为解决这一行业痛点,湿......

LAM 2300 Exelan Flex蚀刻机基本介绍LAM 2300 Exelan Flex是泛林集团(Lam Research)推出的高性能等离子体干法蚀刻设备,专为半导体制造工艺设计。该设备结合高精度工艺控制与灵活性,适用于逻辑芯片、存储芯片(如3D NAND、DRAM)及 封装技术(如TSV)的复杂蚀刻需求。LAM 2300 Exelan Flex蚀......

因产品配置不同, 价格货期需要电议, 图片仅供参考, 一切以实际成交合同为准上海伯东日本原装进口 NS 离子束刻蚀机 10 IBE, 适用于实验室研究 8寸及以下单片的材料刻蚀. 离子束刻蚀机 10 IBE 可选配美国 KRi 考夫曼离子源或终点检测(监测当前气体成分, 监控刻蚀制程).离子束刻蚀机 10 IBE 特性基板尺寸:......

因产品配置不同, 价格货期需要电议, 图片仅供参考, 一切以实际成交合同为准上海伯东日本原装进口 NS 离子束刻蚀机 10 IBE, 适用于实验室研究 8寸及以下单片的材料刻蚀. 离子束刻蚀机 10 IBE 可选配美国 KRi 考夫曼离子源或终点检测(监测当前气体成分, 监控刻蚀制程).离子束刻蚀机 10 IBE 特性基板尺寸:......

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