半导体芯片检测设备
牛津仪器刻蚀和沉积设备PlasmaPro 100 Cobra可以用在纳米材料行业领域，用来检测Power Semiconductors，可完成Power Semiconductors项目。符合多项行业标准Oxford Instruments。 半导体制造解决方案 PlasmaPro 100系列刻蚀和沉积设备可安装多种衬底电极，能够在很宽的温度范围内进行工艺，......
徕卡抛光机Leica EM TIC 3X可用于测定半导体芯片，适用于截面结构项目。并且参考多项行业标准。可应用于纳米材料行业领域。 1.独特的三离子束系统，可获得最佳的截面处理质量，并可高效获得宽且深的切割区域，大大降低工作时间。并可实现在一次处理过程中最多处理3个样品。因此对有高通量需求的实验室，徕卡EM TIC 3X是最佳解决方案。 三离子束......
牛津仪器刻蚀和沉积设备PlasmaPro 100 Cobra可以用在高分子材料行业领域，用来检测Power Semiconductors，可完成Power Semiconductors项目。符合多项行业标准Oxford Instruments。 半导体制造解决方案 PlasmaPro 100系列刻蚀和沉积设备可安装多种衬底电极，能够在很宽的温度范围内进行工艺......
牛津仪器刻蚀和沉积设备PlasmaPro 100 Cobra可用于测定Semiconductor，适用于Semiconductor项目。并且参考多项行业标准Oxford Instruments。可应用于高分子材料行业领域。 Plasma Solutions for Discrete Semiconductor Device Manufacture Plasm......
牛津仪器半导体检测仪PlasmaPro 100 Cobra可用于测定Optoelectronic Semiconductor，适用于Optoelectronic Semiconductor项目。并且参考多项行业标准Oxford Instruments。可应用于电子/半导体行业领域。 Plasma Solutions for Optoelectronic Se......
牛津仪器刻蚀和沉积设备PlasmaPro 100 Cobra可用于测定Power Semiconductors，适用于Power Semiconductors项目。并且参考多项行业标准Oxford Instruments。可应用于纳米材料行业领域。 失效分析 PlasmaPro 100系列刻蚀和沉积设备可安装多种衬底电极，能够在很宽的温度范围内进行工艺，具有......
牛津仪器半导体检测仪PlasmaPro 100 Cobra适用于Power Semiconductors项目，参考多项行业标准Oxford Instruments。可以检测Power Semiconductors等样品。可应用于电子/半导体行业领域。 失效分析 紧密的设计，布局灵活实时清洗和终点监测特征牛津仪器的PlasmaPro 100系列具有200mm单......
牛津仪器半导体检测仪PlasmaPro 100 Cobra用于测定Power Semiconductors，符合行业标准Oxford Instruments。适用Power Semiconductors项目。 失效分析 PlasmaPro 100系列刻蚀和沉积设备可安装多种衬底电极，能够在很宽的温度范围内进行工艺，具有200mm单晶圆和多晶圆批处理能力，该工......
牛津仪器刻蚀和沉积设备PlasmaPro 100 Cobra可以用在纳米材料行业领域，用来检测Power Semiconductors，可完成Power Semiconductors项目。符合多项行业标准Oxford Instruments。 半导体制造解决方案 紧密的设计，布局灵活实时清洗和终点监测特征牛津仪器的PlasmaPro 100系列具有200mm......
点击查看下载刻蚀和沉积设备PlasmaPro 100 Cobra半导体检测仪 应用于电子/半导体相关资料，进一步了解产品。 牛津仪器PlasmaPro 100 系统-2017 PlasmaPro-100-Brochure PlasmaPro 100系列刻蚀和沉积设备可安装多种衬底电极，能够在很宽的温度范围内进行工艺，具有200mm单晶圆和多晶圆批处理能力，该......