cvd化学气相沉积碳化硅
多功能电感耦合等离子体增强化学气相沉积系统（CVD）是用来制备高纯、高性能固体薄膜的主要技术，主要借助微波或射频的方法将目标气体进行电离，促进化学反应在较低的温度下进行，从而在基片上沉积出所期望的薄膜。多功能电感耦合等离子体增强化学气相沉积系统（CVD）是用来制备高纯、高性能固体薄膜的主要技术，主要借助微波或射频的方法将目标气体进行电离，促进化学反应在较低的......
安捷伦气相色谱仪Intuvo 9000可以用在多个行业领域，用来检测土壤和沉积物，可完成21种酚类化合物项目。符合多项行业标准HJ 703-2014。 创新的流路能够让您完全重新构想气相色谱柱的大小、连接和加热功能。无密封垫圈的快速接头使任何经验水平的操作者都能实现完全无泄漏的连接。芯片式保护柱可防止下游组件被污染，从而无需截短色谱柱。这样的保护可使色谱柱......
安捷伦 气相色谱系统Agilent 8860适用于挥发性有机化合物项目，参考多项行业标准HJ 642-2013 。可以检测土壤和沉积物等样品。可应用于土壤行业领域。 本应用简报介绍了使用 Agilent 8697 顶空进样器、8860 GC 和 5977B GC/MSD 系统分析土壤和沉积物中的挥发性有机化合物。从重现性、线性、检测限、定量限和方法回收率五个......
安捷伦Agilent 气相色谱系统8890 可以用在土壤行业领域，用来检测土壤和沉积物，可完成挥发性有机化合物项目。符合多项行业标准 HJ642-2013 。 本应用表明，8890 GC 和 5977B GC/MSD 与 7697A 顶空进样器联用，是对土壤和沉积物中 VOC 进行高灵敏度和可靠分析的理想平台。......
中文名：1，4-二（三甲基硅烷基）苯英文名：1,4-Bis(trimethylsilyl)benzene纯度：≥95%货号：B102292Cas号：13183-70-5产品介绍：用途：1,4-双(三甲基硅烷基)苯 (TMSB) 可用于：作为前体通过等离子体辅助化学气相沉积（CVD）工艺开发碳化硅涂层作为定量核磁共振波谱法 (qNMR) 中的二级标准品作为1H......
iMLayer 基质蒸镀系统（气相沉积）负责样品前处理（施加基质），用于配合 iMScope 影像质谱显微镜或 MALDI-7090 等分析系统，开展 MALDI-MS 成像分析。该系统采用气相沉积法进行前处理，可实现高空间分辨率。通过此方法能够形成精细的基质结晶，并依托自动化控制，按照用户设定条件获得重现性优异的蒸镀层厚度。ItemApplicable m......
nano CVD-8G化学气相沉积系统是一种石墨烯CVD系统，能够精确控制压力、温度和气体化学等条件，这对成功生产石墨烯至关重要。nano CVD-8G化学气相沉积系统由学术团队合作开发，是一种石墨烯CVD系统，能够精确控制压力、温度和气体化学等条件，这对石墨烯的成功生产至关重要。这些设备采用了CVD方法的冷壁变体，相比管炉式设备，污染物更少、运行成本更低，......
1 产品概述： G10-SiC CVD碳化硅化学气相沉积系统是一种专门用于生产碳化硅（SiC）材料的设备，它采用化学气相沉积（CVD）或其他相关技术，在特定条件下将碳和硅元素以气态形式引入反应室，并通过化学反应在基底上沉积形成碳化硅薄膜或晶体。G10-SiC CVD碳化硅化学气相沉积系统在半导体、光伏、新能源汽车等行业......
G10-GaN CVD氮化镓化学气相沉积系统是面向6/8 英寸 GaN 功率与射频器件的新一代量产型 MOCVD 设备，高产能、高均匀性、低成本，专为新能源与 5G 通信外延量产设计。G10-GaN CVD氮化镓化学气相沉积系统核心配置与产能晶圆规格与装载量：单腔支持 8×150 mm（6 英寸）或 5×200 mm（8 英寸）；最多 3 个工艺腔的集群设计......
G10-ASP CVD砷化镓化学气相沉积系统是面向GaAs/InP 基光电器件的全自动高性能 MOCVD 设备，主打高均匀、低缺陷、高产能，专为Micro LED、高速激光器、光通信 PIC等优良外延量产设计。G10-ASP CVD砷化镓化学气相沉积系统核心配置与规格 晶圆规格与产能：支持 75......