【技术参数】样品室玻璃腔体尺寸120mm ? x 120mm H,高强度不锈钢结构(可选150mm x 165mm)样品台尺寸可放置12个标准钉形样品台,高度可在 60mm内调节溅射头低电压平面磁控管,靶材更换快速,环绕暗区护罩溅射靶材金(标配),铂,金/钯,铂/钯, 银等靶材尺寸直径57mm x 0.1mm 厚度溅射控制系统微......
Agar镀膜仪喷金仪B7341 【技术参数】样品室玻璃腔体尺寸120mm ? x 120mm H,高强度不锈钢结构(可选150mm x 165mm)样品台尺寸可放置12个标准钉形样品台,高度可在 60mm内调节溅射头低电压平面磁控管,靶材更换快速,环绕暗区护罩溅射靶材金(标配),铂,金/钯,铂/钯, 银等靶材尺寸直径57mm ......
扫描电镜 SEM 不导电样品需要用 镀金机 离子溅射仪 镀膜仪 喷金仪 进行样品前处理【技术参数】样品室玻璃腔体尺寸120mm ? x 120mm H,高强度不锈钢结构(可选150mm x 165mm)样品台尺寸可放置12个标准钉形样品台,高度可在 60mm内调节溅射头低电压平面磁控管,靶材更换快速,环绕暗区护罩溅射靶材金(标配),铂,金/钯,铂/......
产品型号:Agar镀膜仪喷金仪B7341 原产地: 英国【技术参数】样品室玻璃腔体尺寸120mm ? x 120mm H,高强度不锈钢结构(可选150mm x 165mm)样品台尺寸可放置12个标准钉形样品台,高度可在 60mm内调节溅射头低电压平面磁控管,靶材更换快速,环绕暗区护罩溅射靶材金(标配),铂,金/钯,铂/钯, 银等靶材尺寸......
磁控式 离子溅射仪 采用了一个平板控制电极,通过低电压放电进 行磁控溅射的喷镀。【技术参数】样品室玻璃腔体尺寸120mm ? x 120mm H,高强度不锈钢结构(可选150mm x 165mm)样品台尺寸可放置12个标准钉形样品台,高度可在 60mm内调节溅射头低电压平面磁控管,靶材更换快速,环绕暗区护罩溅射靶材金(标配),铂,金/钯,铂/钯,&......
【技术参数】样品室玻璃腔体尺寸为120mm×120mmH,有高强度不锈钢结构(也可选150mm×165mm)。样品台尺寸可以容纳12个标准钉形样品台,高度可以在60mm内调节。溅射头为低电压平面磁控管,可以快速更换靶材,环绕暗区有护罩。溅射靶材包括金(标配)、铂、金/钯、铂/钯、银等,直径为57mm×0.1mm厚度。溅射控制系统采用微处理器控制,可以远程电流......
【技术参数】样品室玻璃腔体尺寸120mmx120mmH,高强度不锈钢结构(可选150mmx165mm)。样品台尺寸可容纳12个标准钉形样品台,高度可在60mm内调节。溅射头为低电压平面磁控管,靶材更换快速。可使用环绕暗区护罩溅射靶材金(标配),铂,金/钯,铂/钯,银等靶材,直径57mmx0.1mm厚度。溅射控制系统采用微处理器控制,支持远程电流/电压感应;最......
【技术参数】样品室玻璃腔体尺寸为120mm×120mmH,采用高强度不锈钢结构(也可选150mm×165mm)。样品台尺寸可容纳12个标准钉形样品台,高度可在60mm内调节。溅射头为低电压平面磁控管,靶材更换快速。可使用直径为57mm×0.1mm厚度的溅射靶材,如环绕暗区护罩溅射的金、铂、金/钯、铂/钯、银等靶材。溅射控制系统采用微处理器控制,可以远程感应电......