电镜 金

【技术参数】样品室玻璃腔体尺寸120mm ? x 120mm H,高强度不锈钢结构(可选150mm x 165mm)样品台尺寸可放置12个标准钉形样品台,高度可在 60mm内调节溅射头低电压平面磁控管,靶材更换快速,环绕暗区护罩溅射靶材金(标配),铂,金/钯,铂/钯, 银等靶材尺寸直径57mm x 0.1mm 厚度溅射控制系统微......

 Agar镀膜仪喷金仪B7341 【技术参数】样品室玻璃腔体尺寸120mm ? x 120mm H,高强度不锈钢结构(可选150mm x 165mm)样品台尺寸可放置12个标准钉形样品台,高度可在 60mm内调节溅射头低电压平面磁控管,靶材更换快速,环绕暗区护罩溅射靶材金(标配),铂,金/钯,铂/钯, 银等靶材尺寸直径57mm ......

扫描电镜 SEM 不导电样品需要用 镀金机 离子溅射仪 镀膜仪 喷金仪 进行样品前处理【技术参数】样品室玻璃腔体尺寸120mm ? x 120mm H,高强度不锈钢结构(可选150mm x 165mm)样品台尺寸可放置12个标准钉形样品台,高度可在 60mm内调节溅射头低电压平面磁控管,靶材更换快速,环绕暗区护罩溅射靶材金(标配),铂,金/钯,铂/......

产品型号:Agar镀膜仪喷金仪B7341 原产地: 英国【技术参数】样品室玻璃腔体尺寸120mm ? x 120mm H,高强度不锈钢结构(可选150mm x 165mm)样品台尺寸可放置12个标准钉形样品台,高度可在 60mm内调节溅射头低电压平面磁控管,靶材更换快速,环绕暗区护罩溅射靶材金(标配),铂,金/钯,铂/钯, 银等靶材尺寸......

磁控式 离子溅射仪 采用了一个平板控制电极,通过低电压放电进 行磁控溅射的喷镀。【技术参数】样品室玻璃腔体尺寸120mm ? x 120mm H,高强度不锈钢结构(可选150mm x 165mm)样品台尺寸可放置12个标准钉形样品台,高度可在 60mm内调节溅射头低电压平面磁控管,靶材更换快速,环绕暗区护罩溅射靶材金(标配),铂,金/钯,铂/钯,&......

【技术参数】样品室玻璃腔体尺寸为120mm×120mmH,有高强度不锈钢结构(也可选150mm×165mm)。样品台尺寸可以容纳12个标准钉形样品台,高度可以在60mm内调节。溅射头为低电压平面磁控管,可以快速更换靶材,环绕暗区有护罩。溅射靶材包括金(标配)、铂、金/钯、铂/钯、银等,直径为57mm×0.1mm厚度。溅射控制系统采用微处理器控制,可以远程电流......

【技术参数】样品室玻璃腔体尺寸120mmx120mmH,高强度不锈钢结构(可选150mmx165mm)。样品台尺寸可容纳12个标准钉形样品台,高度可在60mm内调节。溅射头为低电压平面磁控管,靶材更换快速。可使用环绕暗区护罩溅射靶材金(标配),铂,金/钯,铂/钯,银等靶材,直径57mmx0.1mm厚度。溅射控制系统采用微处理器控制,支持远程电流/电压感应;最......

【技术参数】样品室玻璃腔体尺寸为120mm×120mmH,采用高强度不锈钢结构(也可选150mm×165mm)。样品台尺寸可容纳12个标准钉形样品台,高度可在60mm内调节。溅射头为低电压平面磁控管,靶材更换快速。可使用直径为57mm×0.1mm厚度的溅射靶材,如环绕暗区护罩溅射的金、铂、金/钯、铂/钯、银等靶材。溅射控制系统采用微处理器控制,可以远程感应电......

牛津仪器电镜制样

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牛津仪器 电镜制样设备

型号: 牛津仪器TKD样品座

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专为TKD分析设计的样品座,TKD是指透射菊池花样演示分析(Transmission Kikuchi Diffraction)技术,是一种用于检测微小尺度EBSD的最新方法,其空间分辨率比传统技术提高了一个数量级。该样品座方便用户将超薄样品放置于SEM中并且符合光学原理的衍射花样,以确保获得更加准确的信号量。TKD分析仍然使用原有的EBSD软硬件,只是样品更......

牛津仪器电镜制样

参考成交价格: 暂无

牛津仪器 电镜制样设备

型号: 牛津仪器 OmniProbe系列纳米操纵手

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特色和优点包括第8代具有创新性的先进技术,实现从纳米线操作到TEM样品制备,再到电学和机械测量的各种应用。3轴样平台可以沿任意方向线性移动(全向性),在任何样品倾斜角度下都能实现正交导航。将样品快速旋转到特定角度,可以大范围内执行平稳而精确的操作,即使在视野外也始终知道探头尖端的位置。在任意端口安装都可以预测移动行为,可以轻松地调出存储位置,减少操作员疲劳,......