wafer plasma设备
晶圆厂唯一具有自动缺陷检测的原子力显微镜用于高吞吐量CMP轮廓测量的高精确低噪声原子力轮廓仪Park NX-Wafer是业界领先的半导体及相关制造业自动化AFM计量系统。该系统能提供晶圆制造厂检查和分析、裸晶圆和衬底的自动缺陷检测以及CMP轮廓测量。Park NX-Wafer具有最高的纳米级表面分辨率和亚埃级的高精度。在持续扫描后，探针针尖的变化可以......
高精度探针针尖变量的亚埃米级表面粗糙度测量，晶圆的表面粗糙度对于确定半导体器件的性能是至关重要的，对于先进的元件制造商，芯片制造商和晶圆供应商都要求对晶圆商超平坦表面进行更精确的粗糙度控制，通过提供低于0.5埃 的业界低噪音，并将与其真正的非接触式是模式相结合，Park NX-Wafer能够可靠地获得具有小针尖变量的亚埃米级粗糙度测量，Park的......
半导体检测仪PlasmaPro 100 Cobra牛津仪器 Plasma Solutions for Optoelectronic Semiconductor Device Manufacture
参考成交价格： 暂无
型号：PlasmaPro 100 Cobra
牛津仪器刻蚀和沉积设备PlasmaPro 100 Cobra可以用在纳米材料行业领域，用来检测Optoelectronic Semiconductor，可完成Optoelectronic Semiconductor项目。符合多项行业标准Oxford Instruments。 Plasma Solutions for Optoelectronic Semico......
半导体检测仪PlasmaPro 100 Cobra刻蚀和沉积设备 Plasma Solutions for Discrete Semiconductor Device Manufacture
参考成交价格： 暂无
型号：PlasmaPro 100 Cobra
牛津仪器半导体检测仪PlasmaPro 100 Cobra适用于Semiconductor项目，参考多项行业标准Oxford Instruments。可以检测Semiconductor等样品。可应用于高分子材料行业领域。 Plasma Solutions for Discrete Semiconductor Device Manufacture 紧密的设计，......
原子层刻蚀牛津仪器半导体检测仪 Plasma Solutions for Discrete Semiconductor Device Manufacture
参考成交价格： 暂无
型号：PlasmaPro 100 ALE
牛津仪器原子层刻蚀PlasmaPro 100 ALE用于测定Semiconductor，符合行业标准Oxford Instruments。适用Semiconductor项目。 Plasma Solutions for Discrete Semiconductor Device Manufacture 我们的设备和工艺已通过充分验证，正常运转时间可达90%以上......
PlasmaPro 100 ALE原子层刻蚀牛津仪器 Plasma Solutions for Optoelectronic Semiconductor Device Manufacture
参考成交价格： 暂无
型号：PlasmaPro 100 ALE
牛津仪器半导体检测仪PlasmaPro 100 ALE用于测定Optoelectronic Semiconductor，符合行业标准Oxford Instruments。适用Optoelectronic Semiconductor项目。 Plasma Solutions for Optoelectronic Semiconductor Device Manu......
AFM及扫描探针帕克 NX-Wafer 原子力显微镜Park NX-Wafer 可检测半导体
参考成交价格： 500~1000万元[人民币]
Park原子力显微镜 扫描探针显微镜/SPM（原子力显微镜）
型号：Park NX-Wafer
Park原子力显微镜帕克 NX-Wafer 原子力显微镜Park NX-Wafer用于测定半导体，符合行业标准。适用表面粗糙度测量项目。 超高精度和最小化探针针尖变量的亚埃级表面粗糙度测量 CMP进行表征的长范围轮廓扫描平坦化是在使用金属和介电材料的后段工艺中最重要的步骤。化学机械抛光（CMP）后的局部和全局均匀性对芯片制造的产量有很大的影响。精确的CMP......
帕克 NX-Wafer 原子力显微镜Park原子力显微镜Park NX-Wafer 适用于表面粗糙度测量
参考成交价格： 500~1000万元[人民币]
Park原子力显微镜 扫描探针显微镜/SPM（原子力显微镜）
型号：Park NX-Wafer
Park原子力显微镜帕克 NX-Wafer 原子力显微镜Park NX-Wafer可以用在纳米材料行业领域，用来检测半导体，可完成表面粗糙度测量项目。符合多项行业标准。 超高精度和最小化探针针尖变量的亚埃级表面粗糙度测量 晶圆厂唯一具有自动缺陷检测的原子力显微镜用于高吞吐量CMP轮廓测量的高精确低噪声原子力轮廓仪Park NX-Wafer是业界领先的半......
Park原子力显微镜帕克 NX-Wafer 原子力显微镜AFM及扫描探针 应用于机械设备
参考成交价格： 500~1000万元[人民币]
Park原子力显微镜 扫描探针显微镜/SPM（原子力显微镜）
型号：Park NX-Wafer
点击查看下载Park原子力显微镜帕克 NX-Wafer 原子力显微镜AFM及扫描探针 应用于机械设备相关资料，进一步了解产品。 CMP进行表征的长范围轮廓扫描平坦化是在使用金属和介电材料的后段工艺中最重要的步骤。化学机械抛光（CMP）后的局部和全局均匀性对芯片制造的产量有很大的影响。精确的CMP轮廓扫描是优化工艺条件、获得最佳平坦度以及提高生产率的关键计......
Park NX-Wafer帕克 NX-Wafer 原子力显微镜Park原子力显微镜 其他资料
参考成交价格： 500~1000万元[人民币]
Park原子力显微镜 扫描探针显微镜/SPM（原子力显微镜）
型号：Park NX-Wafer
点击查看下载Park NX-Wafer帕克 NX-Wafer 原子力显微镜Park原子力显微镜 其他资料相关资料，进一步了解产品。 帕克的智能ADR技术提供全自动的缺陷检测和识别，使得关键的在线过程能够通过高分辨率3D成像对缺陷类型进行分类并找出它们的来源。 CMP进行表征的长范围轮廓扫描平坦化是在使用金属和介电材料的后段工艺中最重要的步骤。化学机械抛光（C......