布莱特全自动离子溅射仪
品牌：布莱特公司型号：KAS-2000F制造商：布莱特公司经销商：欧波同有限公司产地：英国 BRIGHT(UK) Co.,Ltd创立于2007年1月，专注于微观分析设备的生产。自建立之初，BRIGHT(布莱特)公司即与英国的各个著名学府及科研院所展开了合作，公司紧跟科学领域的技术发展，不断把zei新的技术介绍给广大客户，并与......
离子溅射仪为一种有着紧凑结构的桌上型镀膜系统，对于扫描电镜成像中非导电样品高质量镀膜尤为适用。试样干燥清洁为离子溅射镀膜的基本要求。在必要时，交换试样与阴极的位置利用火花放电从而对试样表面进行清洁，之后试样复原，再进行溅射镀膜。铁、镍、铜铅等为离子溅射仪常用的阴极材料，有时电刚金、铂、钯、铟和其他金属也能够作为阴极材料，氧气为离子溅射仪常用的反应气体。&nb......
基本原理为以荷能正离子对靶电极轰击使得溅射现象产生为基础。在基台上样品表面靶被溅射出来的中性原子沉淀成膜，使得导电层形成。品牌：布莱特公司型号：KAS-2000F制造商：布莱特公司经销商：欧波同有限公司产地：英国 BRIGHT(UK) Co.,Ltd创立于2007年1月，专注于微观分析设备的生产。自建立之初，BRIGHT(布莱特)公司即与英国的各个......
全自动磁控离子溅射仪是物理气相沉积的一种。实现了高速、低温、低损伤。是在低气压下进行高速溅射，必须有效地提高气体的离化率。磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场，利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。其在扫描电镜中应用十分广泛，通过向样品表面喷镀金、铂、钯及混合靶材等金属消除不导电样品的荷电现象，并提高观测效率，另外可以使用喷碳附件对样品进行蒸碳......
全自动磁控离子溅射仪在光学领域：中频闭场非平衡磁控溅射技术也应用于光学薄膜（如减反射膜）、低辐射玻璃和透明导电玻璃。产品特点液晶显示屏简便操作自动抽真空做样自动放气溅射电流范围大溅射效率高颗粒度小样品表面无温升适用温度敏感性样品应用领域放置手套箱内，用于、易氧化需要保护的样品制备技术指标溅射电流：5-45mA工作方式：全自动磁控溅射电压：600V靶材：金、铂......
产品特点液晶显示屏简便操作自动抽真空做样自动放气溅射电流范围大溅射效率高颗粒度小样品表面无温升适用温度敏感性样品应用领域场发射电镜、电极制备、温度敏感样品制备技术指标工作方式：全自动磁控溅射电流：5-45mA靶材：金、铂（标配、二选一）溅射电压：600V真空泵：油封式旋片泵1L/s（可选配涡旋干泵）真空度：＜1Pa产品特性本仪器主要用于扫描电镜样品制备、电极......
产品特点液晶显示屏简便操作自动抽真空做样自动放气溅射电流范围大溅射效率高颗粒度小样品表面无温升适用温度敏感性样品应用领域场发射电镜、电极制备、温度敏感样品制备技术指标工作方式：全自动磁控溅射电流：5-45mA靶材：金、铂（标配、二选一）溅射电压：600V真空泵：油封式旋片泵1L/s（可选配涡旋干泵）真空度：＜1Pa产品特性本仪器主要用于扫描电镜样品制备、电极......
全自动磁控离子溅射仪是一种常用的物理气相沉积（PVD）的方法，具有沉积温度低、沉积速度快、所沉积的薄膜均匀性好，成分接近靶材成分等众多优点。传统的溅射技术的工作原理是：在高真空的条件下，入射离子（Ar+）在电场的作用下轰击靶材，使得靶材表面的中性原子或分子获得足够动能脱离靶材表面，沉积在基片表面形成薄膜。但是，电子会受到电场和磁场的作用，产生漂移，因而导致传......
被应用于装饰领域，被制成全反射及半透明膜，比如我们常用常换常买的手机壳。产品特点液晶显示屏简便操作自动抽真空做样自动放气溅射电流范围大溅射效率高颗粒度小样品表面无温升适用温度敏感性样品应用领域场发射电镜、电极制备、温度敏感样品制备技术指标工作方式：全自动磁控溅射电流：5-45mA靶材：金、铂（标配、二选一）溅射电压：600V真空泵：油封式旋片泵1L/s（可选......
产品特点液晶显示屏简便操作自动抽真空做样自动放气溅射电流范围大溅射效率高颗粒度小样品表面无温升适用温度敏感性样品应用领域场发射电镜、电极制备、温度敏感样品制备技术指标工作方式：全自动磁控溅射电流：5-45mA靶材：金、铂（标配、二选一）溅射电压：600V真空泵：油封式旋片泵1L/s（可选配涡旋干泵）真空度：＜1Pa产品特性本仪器主要用于扫描电镜样品制备、电极......