测量 显微镜
牛津仪器Asylum Research Cypher原子力显微镜 杨氏模量特性测量
参考成交价格： 250万元[人民币]
AsylumResearch 扫描探针显微镜/SPM（原子力显微镜）
型号：Cypher S
Asylum Research Cypher S 是一款可商业化的快速扫描AFM，而且Cypher 系列AFM 系列是少有的全功能快速扫描AFM，该系列AFM可兼容各种模式和配件。原子力显微镜 Cypher S是一款打破传统AFM速度和分辨率限制的商业AFM。它使用的小型悬臂可以大幅提高速度和分辨率，独特的系统设计方法使其免受一般震动和温度波动的影......
牛津仪器Asylum Research Cypher原子力显微镜 表面电势特性测量
参考成交价格： 250万元[人民币]
AsylumResearch 扫描探针显微镜/SPM（原子力显微镜）
型号：Cypher S
牛津仪器Asylum Research Cypher原子力显微镜 主要技术参数：1）样品尺寸：直径 <15 mm，高度<5 mm；2）样品台移动范围：180 mm×180 mm；3）分辨率：原子分辨；4）导电分辨率：1 pA ~ 20 nA；5）液下测试Z轴范围：0.5 μm；6）高压测试模块，高压最大达150 V。Asylum Research......
牛津仪器Asylum Research Cypher原子力显微镜 微区导电性能特性测量
参考成交价格： 250万元[人民币]
AsylumResearch 扫描探针显微镜/SPM（原子力显微镜）
型号：Cypher S
Asylum Research Cypher S ，该系列的优势还在于其更容易获得高分辨率。在材料科学和生命科学研究领域， Cypher S 可以实现在空气和液体环境下的对样品进行高质量的扫描和测量。原子力显微镜 Cypher S是一款打破传统AFM速度和分辨率限制的商业AFM。它使用的小型悬臂可以大幅提高速度和分辨率，独特的系统设计方法使其免受一般震动和温......
Park NX-Wafer 低噪声原子力轮廓仪，用于更精确的CMP轮廓测量亚埃级表面粗糙度测量具有极高的精度和极长的探针使用寿命用于缺陷成像和分析的全自动AFM解决方案全自动系统，包括自动探针更换、机器人晶片搬运能够扫描300 mm晶圆 为在线晶圆厂计量提供高生产率和强大特性光片和基板的自动缺陷检测新的300mm光片ADR提供......
核心参数型号NX-Hivac产地韩国样本 下载品牌Park 原子力价格区间200万-250万仪器种类原子力显微镜产地类别进口仪器仪器类型材料型定位检测噪声≤0.05nm样品尺寸50mm*50mm,最多厚20mm样品台移动范围22mm*22mmPark NX-Hivac用于故障分析与敏感材料研究的高真空原子力显微镜Park NX-Hivac通过为......
开拓了激光显微镜的界限。 -总是值得信赖的影像和测量- 激光扫描显微镜的优势 非接触式、无损、快速成像和测量 ○ 非接触式、无损测量 激光扫描显微镜(LSM)采用低功率激光，不接触样品。因此，不像基于探针系统的接触式表面粗糙度测量仪那样存在损坏样品的风险。 ○ 无需前期准备即可......
多年的显微镜开发经验成就了优异的观察性能STM7系列采用了当前zei先进光学显微镜中所使用的UIS2无限远校正光学系统。因此，观察到的图像具有高分辨率和高对比度，此外，像差也被完全消除，以确保实现对微小细节的高精度测量。 &nbs......
徕卡德国 光学表面测量系统 DCM8Leica DCM8 用于测定表面测量，符合行业标准。适用徕卡3D表面测量系统项目。 全面了解3D表面测量学在工业和研究中，，高精度表面分析发挥着至关重要的作用，它可以帮助确保材料和组件实现令人满意的性能，但同时也面临着诸多挑战∶表面结构错综复杂，高倾斜度区域要求横向分辨率达到数微米，而关键性微观峰谷要求垂直分析达到亚纳米......
徕卡德国 光学表面测量系统 DCM8Leica DCM8 可用于测定表面测量，适用于徕卡3D表面测量系统项目。并且参考多项行业标准。可应用于多个行业领域。 全面了解3D表面测量学在工业和研究中，，高精度表面分析发挥着至关重要的作用，它可以帮助确保材料和组件实现令人满意的性能，但同时也面临着诸多挑战∶表面结构错综复杂，高倾斜度区域要求横向分辨率达到数微米，而关......
徕卡数码显微镜Leica DCM8 可以用在多个行业领域，用来检测表面测量，可完成徕卡3D表面测量系统项目。符合多项行业标准。 全面了解3D表面测量学在工业和研究中，，高精度表面分析发挥着至关重要的作用，它可以帮助确保材料和组件实现令人满意的性能，但同时也面临着诸多挑战∶表面结构错综复杂，高倾斜度区域要求横向分辨率达到数微米，而关键性微观峰谷要求垂直分析达到......