半导体检测工业显微镜配置
仪器名称：Zeta电位分析仪研究对象：纤维、薄膜、粉末、粒子、固体金属或非金属片等材料。主要用途：测量材料的表面电荷，了解材料表面上的电荷状况，研究材料表面性能。主要应用：材料表面改性 材料表面黏附、吸附、脱附等 ......
适应范围广、搭配灵活对应多种尺寸组合我们推出了200 mm专用型、200 mm/150 mm兼用型和150 mm型（对应小于150 mm的晶圆）的3种型号。除此以外，您还可以根据检查模式，选用微观检查专用型号"L型"或微观•宏观检查兼用型号"LMB......
高产能 8" 检查及缺陷分析系统 - Leica DM8000 M 工业显微镜——徕卡 DM8000 M 提供了全新的光学设计，如理想的 宏观检查模式 或者倾斜紫外光 (OUV, 随检UV 选择) 不但提高了分辨能力，同时也增加了观察 8’’/200 毫米直径大样品 时的产量。该机照明 基于最新的 LED 科技 ，一体化整合在显微镜......
人机工程学设计，操作方便可以自由设置的检查模式，在设计上考虑了后道工程中的操作性，尤为重视设备的操作简便性。分别对应FOUP(Load Port）和FOSB的两种机型。坚固、可靠和安全传送延续了上一代机型的坚固性、可靠性和安全性，能够安全可靠的传送300 mm晶圆。薄片，Warped晶圆皆能安全搬送。宏观观察位置的zei优化和操作单元的集中排列，提高了设备的......
徕卡DM12000M工业显微镜 Leica DM12000 M 工业显微镜——徕卡DM12000M全新的光学设计,可以提供宏观模式快速初检,以及倾斜紫外光路功能(OUV, 倾斜紫外观察模式) 不单提升了分辨率还提高了检查12英寸(300毫米)硅片的产能。最新的 LED 照明技术 一体化设计并整合在显微镜上. 低热辐射和机身内一体化技术确保了最理想的机身外空气......
满足大面积样本观察需求的工业检测显微镜NX1000系列 · 精确成像，色彩还原度高——Nexcope NM1000系列工业检测显微镜采用经过多年研究和不断改良的NIS45无限远光学系统，具有工作距离长，色差矫正能力强，成像锐利等优秀的光学品质。 ·专为工业大面积观察需求设计——大面积观察需要更大的操作平台，Nexcope NM1000系列......
仪器简介： 德国UHL工业工具测量显微镜VMM300、半导体工具测量显微镜，包括德国原徕卡工具测量显微镜Leica-VMM测量系统一直由UHL公司代工生产，目前已全部由UHL直接升级和销售。UHL是世界zei专业的工具测量显微镜、测量台载物台OEM制造商之一，专业客户包括蔡司徕卡海德汉等。目前VMM系列包括VMM150/200/300,以及ze......
ICP-MS分析被称为超痕量、多元素分析的最佳技术，可覆盖周期表中70多种金属和非金属元素的分析，目前已被广泛地应用于地球科学、环境科学、生命科学、材料科学、半导体工业以及公安侦探等领域。在食品环境领域，除准确定量分析外，还可通过ICP-MS与色谱仪器的联用，实现元素的形态价态分析；在临床分析领域，基于ICP-MS技术的体液、细胞等样本中元素的准确定量具有重......