激光脉冲沉积系统
薄膜制备领导者BlueWave是一家著名的美国半导体设备、材料生产商。BlueWave提供多种薄膜制备系统，包括脉冲激光沉积(PLD)、电子束蒸发、热蒸发、反应溅射、热丝化学气相沉积(HFCVD)、热化学气相沉积系统(TCVD)。这些系统是zei理想的薄膜与涂层合成设备。可制备的薄膜包括氮化物、氧化物、多层膜、钻石、石墨烯、碳纳米管、2D材料。Blue Wa......
仪器简介： PLD是将脉冲激光透过合成石英窗导入真空腔内照射到成膜靶上，靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume状等离子体状态，然后被堆积到设在对面的基板上而成膜。PLD方法可以获得拥有热力学理论上准稳定状态的组成和构造的人工合成新材料。 我们PLD系统拥有zei好的性能价比,具有以下优异的性能: 主真空室腔体直径......
安东帕微波消解系统Multiwave GO Plus用于测定土壤、沉积物，符合行业标准Application Reports。适用与溶剂极性相似的有机物项目。 称取样品5 -- 10 g，加入溶剂: 12.5 mL 正己烷 和 12.5 mL 丙酮，分析人员应确保提取的样品等分试样足够大以提供必要的灵敏度。 干燥后的样品应研磨成细粉（直到通过10目筛子为止）......
点击查看下载安捷伦红外Agilent LDIR 激光成像系统 Agilent LDIR 激光成像系统相关资料，进一步了解产品。 如果您既可以节省时间又能获得更出色的结果，那将会怎样？Agilent 8700 LDIR 激光红外成像系统为您提供全新的尖端化学成像和光谱分析能力。针对专家和非专家使用而设计的 8700 LDIR 提供了一种简单的高度自动化方......
美国SVT公司PLD脉冲激光沉积系统用于沉积金属薄膜，氧化物薄膜，多元素材料薄膜的脉冲激光沉积系统，可以与多种薄膜制备设备连用。凭借多年的科研与实践经验，我公司为许多科研用户独立打造了PLD-MBE连用系统，PLD-UHV Suptter连用系统等。 应用： ZnO材料功能薄膜 STO薄膜 金属薄膜 超导薄膜 铁电功能薄膜 功能......
仪器简介： 应用： -Focusing the high power pulsed laser beam to strike a target -Oxide compound deposition in oxygen atmosphere -铁磁 / 电介体 / 磁阻抗材料沉积技术参数： 腔形状 : ......
本公司提供超高真空的脉冲激光沉积（PLD）系统。 规格： 1）可选测量分析腔 2）样品台可以同时容纳5个样品 3）用于样品台的传输臂 4）高压RHEED组件包 ......
脉冲激光沉积系统(PLD)、激光分子束外延设备(L-MBE) 设备简介：产地：美国NBMPLD是将脉冲激光透过合成石英窗导入真空腔内照射到成膜靶上，靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume状等离子体状态，然后被堆积到设在对面的基板上而成膜。PLD方法可以获得拥有热力学理论上准稳定状态的组成和构造的人工合成新材料。 我司PLD特点：我们PLD系统拥......
OpAL系统是一种直接开放式热原子层沉积（ALD）设备，其中包含等离子体选项。它可以轻松升级为等离子体ALD，实现在一个紧凑的设备中结合等离子体和热ALD。这款紧凑型直开式热原子层沉积（ALD）设备，带有等离子体选项，适用于小尺寸至200mm的晶圆片，能够蒸汽吸取或鼓泡四种液体或固体前驱体，并实时检测选项，包括与ALD控制软件相连的光谱椭偏仪。OpAL系统可......
OpAL系统是一种直立式热原子层沉积（ALD）设备，配备等离子体选项。它能够简单地实现从热ALD升级到等离子体ALD，在一个紧凑的结构上实现等离子体和热ALD。紧凑型直立式热原子层沉积（ALD）设备，带有等离子体选项，适用于直径小至200mm的晶圆。它可以实时监测四种液体或固体前驱体的蒸气吸取或鼓泡，包括与ALD控制软件相连的光谱椭偏仪。OpAL系统可通过简......