性能特点:进口高压双柱塞平流泵,流速范围宽,耐高压,耐酸碱,耐100%有机溶剂PEEK流路系统,高压六通阀,信号自动采集连续自动再生膜抑制器,抑制容量大,适用范围广,使用寿命长数字式控温电导检测器具有高灵敏度、高稳定性、使检测结果准确可靠具有反控功能的色谱工作软件,全中/英文显示,具有多通道数据采集技术......
徕卡抛光机Leica EM TIC 3X参考多项行业标准。完成半导体芯片的检测。可以用在纳米材料行业领域中的截面结构项目。 1.独特的三离子束系统,可获得最佳的截面处理质量,并可高效获得宽且深的切割区域,大大降低工作时间。并可实现在一次处理过程中最多处理3个样品。因此对有高通量需求的实验室,徕卡EM TIC 3X是最佳解决方案。 三离子束(分别独......
徕卡德国离子研磨仪 EM TIC 3XLeica EM TIC 3X 适用于截面结构项目,参考多项行业标准。可以检测半导体芯片等样品。可应用于纳米材料行业领域。 1.独特的三离子束系统,可获得最佳的截面处理质量,并可高效获得宽且深的切割区域,大大降低工作时间。并可实现在一次处理过程中最多处理3个样品。因此对有高通量需求的实验室,徕卡EM TIC 3X是最佳解......
点击查看下载Leica EM TIC 3X 德国离子研磨仪 EM TIC 3X徕卡 Leica EM TIC 3X离子研磨仪相关资料,进一步了解产品。 为透射电镜/扫描电镜/生命科学/工业材料样品提高样品制备全套解决方案.徕卡纳米技术部提供:超薄切片,组织处理,高压冷冻,镀膜,临界点干燥,机械研磨抛光,离子束研磨,冷冻断裂/复型及真空环境传输等各类技术手段,......
参考成交价格: 100~200万元[人民币]
型号:Leica EM TIC 3X
徕卡德国离子研磨仪 EM TIC 3XLeica EM TIC 3X 使用离子束制备SEM样品:EM TIC 3X三离子束研磨仪针对不同使用环境,有着不同的操作与维护流程,点击查看操作维修手册。 如今,离子束蚀刻技术是应用最广泛的电子显微镜样品制备方 法。在蚀刻过程中,高能氩离子束轰击样品,并根据其应用领域 调整 离子束能量和切割角度。 在制备扫描电子显微......
点击查看下载Leica EM TIC 3X 徕卡德国离子研磨仪 EM TIC 3X 样本相关资料,进一步了解产品。 徕卡Leica EM TIC 3X可通过离子束侧面轰击样品,获得高质量无应力“切割”截面,以便于SEM观察,及EDX或EBSD等分析。并可对样品进行离子束平面抛光,抛光面积达25mm。Leica EM TIC 3X适用于多层膜材料、软硬复合材料......
产品简介:独特宽场三离子束,垂直于样品侧面纵向轰击样品,实现高质量无应力“切割”截面,几乎适用于各种材料。可对样品进行离子束抛光处理。产品介绍:LeicaEMTIC3X三离子束切割仪可以制备横切面和抛光表面,适用于扫描电子显微镜(SEM)、微观结构分析(EDS、WDS、Auger、EBSD)和AFM科研工作。使用LeicaEMTIX 3X,几乎可以在室温或冷......
效率和灵活性是LeicaEMTIC3X三离子束切割仪的核心特点。新版EMTIC3X秉承“与用户合作,使用户受益”的理念,以实用性为重点,将性能和灵活性完美融合。最新的EMTIC3X切割速度翻倍,同时提供五种不同的载物台供用户选择,进一步提升了实用性。LeicaEMTIC3X‐IonBeamSlopeCutter可制备横切面和抛光表面,用于扫描电子显微镜(SE......
产品简介:独特宽场三离子束,以垂直于样品侧面纵向轰击样品,实现高质量无应力“切割”截面,几乎适用于各种材料。还可对样品进行离子束抛光处理。产品介绍:LeicaEMTIC3X三离子束切割仪可制备横切面和抛光表面,用于扫描电子显微镜(SEM)、微观结构分析(EDS、WDS、Auger、EBSD)和AFM科研工作。使用LeicaEMTIX 3X,您几乎可以在室温或......
产品简介:这款设备拥有独特的宽场三离子束技术,能够垂直于样品侧面进行纵向轰击,实现高质量无应力的"切割"截面,几乎适用于各种材料。同时也可以对样品进行离子束抛光处理。产品介绍:LeicaEMTIC3X三离子束切割仪可复制结果,可制备横切面和抛光表面,适用于扫描电子显微镜(SEM)、微观结构分析(EDS、WDS、Auger、EBSD)和AFM科研工作。使用Le......