透射电镜 样品 喷金
多功能高级磁控溅射喷金仪—nanoEMnanoEM是Moorfield Nanotechnology推出的一款高精度的磁控溅射喷金仪。该系统可配备SEM样品托、TEM网、普通样品等多种专用样品台，满足各种高精度的喷金或电生长需求。除了溅射金属电外，nanoEM还具有大的拓展空间，虽然作为台式设备，nanoEM配备了输出功率可达300W的溅射源，系统还可选择样......
【技术参数】样品室玻璃腔体尺寸120mm ? x 120mm H，高强度不锈钢结构（可选150mm x 165mm）样品台尺寸可放置12个标准钉形样品台，高度可在 60mm内调节溅射头低电压平面磁控管，靶材更换快速，环绕暗区护罩溅射靶材金（标配），铂，金/钯，铂/钯, 银等靶材尺寸直径57mm x 0.1mm 厚度溅射控制系统微......
Agar镀膜仪喷金仪B7341 【技术参数】样品室玻璃腔体尺寸120mm ? x 120mm H，高强度不锈钢结构（可选150mm x 165mm）样品台尺寸可放置12个标准钉形样品台，高度可在 60mm内调节溅射头低电压平面磁控管，靶材更换快速，环绕暗区护罩溅射靶材金（标配），铂，金/钯，铂/钯, 银等靶材尺寸直径57mm ......
扫描电镜 SEM 不导电样品需要用 镀金机 离子溅射仪 镀膜仪 喷金仪 进行样品前处理【技术参数】样品室玻璃腔体尺寸120mm ? x 120mm H，高强度不锈钢结构（可选150mm x 165mm）样品台尺寸可放置12个标准钉形样品台，高度可在 60mm内调节溅射头低电压平面磁控管，靶材更换快速，环绕暗区护罩溅射靶材金（标配），铂，金/钯，铂/......
产品型号：Agar镀膜仪喷金仪B7341 原产地： 英国【技术参数】样品室玻璃腔体尺寸120mm ? x 120mm H，高强度不锈钢结构（可选150mm x 165mm）样品台尺寸可放置12个标准钉形样品台，高度可在 60mm内调节溅射头低电压平面磁控管，靶材更换快速，环绕暗区护罩溅射靶材金（标配），铂，金/钯，铂/钯, 银等靶材尺寸......
扫描电镜 SEM 不导电样品需要用 镀金机 离子溅射仪 镀膜仪 喷金仪 进行样品前处理【技术参数】样品室玻璃腔体尺寸120mm ? x 120mm H，高强度不锈钢结构样品台尺寸可放置12个标准钉形样品台，高度可在 30mm内调节蒸镀源高纯度碳棒，直径6.15mm蒸镀控制系统微处理器控制，远程电流/电压感应；最大电流180A，程序化数字控制；提供真......
磁控式 离子溅射仪 采用了一个平板控制电极，通过低电压放电进 行磁控溅射的喷镀。【技术参数】样品室玻璃腔体尺寸120mm ? x 120mm H，高强度不锈钢结构（可选150mm x 165mm）样品台尺寸可放置12个标准钉形样品台，高度可在 60mm内调节溅射头低电压平面磁控管，靶材更换快速，环绕暗区护罩溅射靶材金（标配），铂，金/钯，铂/钯,&......
【技术参数】样品室玻璃腔体尺寸为120mm×120mmH，有高强度不锈钢结构（也可选150mm×165mm）。样品台尺寸可以容纳12个标准钉形样品台，高度可以在60mm内调节。溅射头为低电压平面磁控管，可以快速更换靶材，环绕暗区有护罩。溅射靶材包括金（标配）、铂、金/钯、铂/钯、银等，直径为57mm×0.1mm厚度。溅射控制系统采用微处理器控制，可以远程电流......
【技术参数】样品室玻璃腔体尺寸120mmx120mmH，高强度不锈钢结构（可选150mmx165mm）。样品台尺寸可容纳12个标准钉形样品台，高度可在60mm内调节。溅射头为低电压平面磁控管，靶材更换快速。可使用环绕暗区护罩溅射靶材金（标配），铂，金/钯，铂/钯，银等靶材，直径57mmx0.1mm厚度。溅射控制系统采用微处理器控制，支持远程电流/电压感应；最......
【技术参数】样品室玻璃腔体尺寸为120mm×120mmH，采用高强度不锈钢结构（也可选150mm×165mm）。样品台尺寸可容纳12个标准钉形样品台，高度可在60mm内调节。溅射头为低电压平面磁控管，靶材更换快速。可使用直径为57mm×0.1mm厚度的溅射靶材，如环绕暗区护罩溅射的金、铂、金/钯、铂/钯、银等靶材。溅射控制系统采用微处理器控制，可以远程感应电......