二氧化钛表面涂层的研究

2023-12-27 16:32:01, 大昌华嘉 大昌华嘉科学仪器


  摘要 

本文介绍了如何使用美国Colloidal Dynamics公司的Zeta电位分析仪ZetaProbe和Zeta电位及粒度分析仪AcoustoSizer IIx研究二氧化钛颗粒上的涂层。


一、介绍

二氧化钛(TiO2)是一种白色颜料,为重要的工业材料,广泛用于涂料、油墨、造纸、合成纤维甚至化妆品行业。经常被用于涂层、反射剂或光的散射/吸收,但它具有光敏性是一个明显的缺点,也就是说,当它受到光的作用时,在其表面会释放出一个电子,该电子可能会对周围的材料造成化学损伤。由于这个原因,二氧化钛颗粒通常覆盖着一些其他氧化物的薄涂层,如氧化硅、氧化铝或氧化锆或它们的组合。


二、使用美国Colloidal Dynamics公司的Zeta电位分析仪 ZetaProbe 进行滴定

我们可以通过酸碱滴定来识别外涂层,以确定 Zeta 电位变为零的位置。这个点称为等电点(即 IEP),对于表面洁净的二氧化钛,它的IEP的pH约为6,二氧化硅的IEP的pH约为2,氧化铝的IEP 的pH约为9。


图1显示了无涂层二氧化钛的zeta电位与pH值的关系曲线。用ZetaProbe进行酸碱滴定可以在半小时内获得这样的曲线。


图1. 无涂层二氧化钛的滴定曲线


在无涂层覆盖的情况下,等电点为pH6.2。图2显示了二氧化硅涂层样品的滴定曲线。IEP 已转移到典型的二氧化硅表面非常低的值。


图2. 覆盖二氧化硅涂层的二氧化钛的滴定曲线


三、遵循涂层工艺

图2的滴定曲线与纯二氧化硅颗粒的滴定曲线相同。显然,在这种情况下,涂层足够厚,可以完全掩盖下面的二氧化钛。涂层必须有多厚才能完全覆盖,如果涂层较薄会发生什么?


下图中的数据提供了第二个问题的答案。在本例中,AcoustoSizer IIx 用于跟踪氧化铝涂层在二氧化钛颗粒上的沉积。在这个实验中,逐渐增加铝的量(如氯化铝或硝酸铝)加入到二氧化钛溶胶中。每次添加后(在低pH值下),pH值升高,导致Al3+离子水解并以氧化物或氢氧化物的形式吸附在颗粒表面。最初的二氧化钛是无涂层的,其IEP 的pH值约为5。当涂层完成时,即IEP的pH已上升到 9.1,这是氧化铝覆盖表面的一个特征值。

图3. 用氧化铝涂覆二氧化钛


Djedjev等人结合了美国Colloidal Dynamics公司的 Zeta电位及粒度分析仪AcoustoSizer IIx、介电响应和涂层的 TEM 测试,对二氧化钛上的二氧化硅涂层进行了详细研究 [1]。他们发现,当涂层厚度小于1nm时,IEP 会下降到二氧化硅的极限值。涂层的进一步增加不会再改变滴定曲线。通过介电常数测量,确定了涂层的介电常数约为20,高于纯二氧化硅的值,作者认为这是二氧化硅涂层内有水解的迹象。


参考文献

1. Djerdjev, A. M., J. K. Beattie, O’Brien, R.W. 2005 "Coating of Silica on Titania Pigment Particles Examined by Electroacousstics and Dielectric Response." Chemistry of Materials 17 (15) 3844-9. 2005


  电声法Zeta电位分析仪  

ZetaProbe是一款易上手,操作简单,测量准确的Zeta 电位分析仪。对于高达60% V/V浓度的样品。也无需稀释或样品前处理即可直接测量,甚至对于浆糊、凝胶、水泥以及用其它仪器很难测量的材料都可用ZetaProbe直接进行测量。


测量参数

- Zeta电位

- 动态迁移率

- 电导率

- pH 值

- 温度

- 等电点(IEP)

  Zeta电位及粒度分析仪  

AcoustoSizer IIx提供了浓缩胶体分散液的彻底和完整表征。AcoustoSizer IIx具有无需稀释,在一台仪器中直接测量颗粒粒径,Zeta 电位,pH,电导率以及温度,它提供了全面的分析。传统的表征技术需要稀释或样品前处理,而且样品前处理即耗时又容易出错,AcoustoSizer IIx专利的多频电声频谱技术消除了这两个问题,AcoustoSizer IIx 在样品的原始状态下直接测量粒径和Zeta电位,所测样品浓度可高达40%V/V。


测量参数

- 粒径分布

- Zeta电位

- 动态迁移率谱

- 超声衰减谱

- pH 值

- 电导率

- 温度


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