应用推荐|SM200及其系列膜厚仪在薄膜检测的应用

2023-09-21 19:12:15 奥谱天成(厦门)光电有限公司


薄膜结构是一种特殊的形态,其在厚度方向上尺寸较小,只能微观可测量,而由于薄膜结构在界面处的突变,使其具备了与普通结构不同的性质。麦克斯韦于十九世纪发表的《论电与磁》奠定了薄膜问题的理论基础,为了获得出色的薄膜性能,我们需要精确的控制薄膜的厚度参数,从而使薄膜器件能够正常工作。薄膜检测技术在近年来广泛发展,主要有接触式测量方法、石英晶体震荡法、椭圆偏振法、反射光谱法、白光光谱法等。

1.接触式测试

探针法是一种典型的接触式测量方法,利用其探头在薄膜表面移动时产生的垂直偏移量来测量薄膜厚度。台阶仪就是这种方法的典型应用。使用这种方法时要在薄膜上制作台阶,基底作为台阶下表面,薄膜作为台阶上表面,探针与薄膜表面接触并且根据台阶来完成测量,这种测量方法下,测量的薄膜需要首先做成台阶,对很多薄膜造成了损伤,且在接触过程中可能在薄膜表面产生划痕,测量速度较慢。

2.石英晶体震荡法

石英晶体振荡法主要利用了石英晶体的压电效应和质量负荷效应,通过测定其固有谐振频率的变化来测量薄膜厚度,石英晶体压电效应的谐振频率为 f=N/d,其中f为石英晶体的固有频率,N为频率常数,d为晶体厚度,石英晶体震荡法经过几十年的发展已经成熟,广泛应用于实时在线测量。

3.椭圆偏振法

椭圆偏振法是基于偏振光在薄膜上的反射时出现的偏振现象,偏振光的分量经样品表面反射时,偏振态会发生变化。椭圆偏振法就是利用偏振态的变化来计算薄膜光学常数,主要通过计算两个分量的反射系数幅值比和相位差来求解。目前应用最广泛的光谱椭偏系统即为多波长求解的典型方案,通过测量的椭偏参数进行反演优化拟合,以求得薄膜参数。椭圆偏振法具有极高的灵敏度,尤其适合测量超薄薄膜,能够快速测量,然而过高的灵敏度使薄膜的非均匀性、样品表面、模型差异等均会影响其测量的准确性。仪器的复杂性、价格以及计算的繁琐也限制其广泛应用。

4.反色光谱法

反射光谱法是利用薄膜的反射率来计算薄膜的光学常数,是测量薄膜的最常用仪器。其测量原理是光入射到薄膜结构并反射,利用光谱仪采集宽波段上反射光谱,通过标准样品计算其反射率曲线,最后利用该曲线与理论模型进行优化拟合来精确求解薄膜参数。反射光谱法测量范围广、测试过程简单。

5.白光光谱干涉法

该方法主要利用光的干涉原理和光谱分光原理,利用光在不同波长处的干涉光强进行求解。其光源出射的光经分光棱镜分成两束,其中一束入射到参考镜,另一束入射到测量样品表面,两束光均发生反射并入射到分光棱镜,此时这两束光会发生干涉。干涉光经光谱仪采集得到白光光谱干涉信号。通过对其干涉信号进行分析得出薄膜特性。其测试过程简单,精度高。

图片源自网络*
奥谱天成作为国内光谱企业领头羊,致力于国产仪器的发展。并且着力推出SM系类等光学薄膜厚度仪器在半导体镀膜、光刻胶膜、氮化层、多晶硅等广泛应用。其利用薄膜反射光干涉原理进行研制,使用波长为200-1700nm的光入射到薄膜表面,薄膜有一定程度的投射仪器就能根据反射回来的干涉光谱拟合计算薄膜厚度,其厚度最大测绘范围达到1nm-250um。  
仪器简介
SM200光学薄膜厚度测量仪器
  • 非接触式、非破坏性的测试
  • 超厂寿命光源、更高的发光效率(可定制光源)
  • 桌面式分布设计、适用场景丰富
  • 维护成本低、保养方便

SM230自动光学薄膜厚度扫描测绘仪

  • 非接触式、非破坏性的测试
  • 测绘速度快,支持多点测绘点位地图绘制
  • 支持绘制样品2D/3D厚度分布图
  • 高精度、长寿命的3轴旋转平台

SM280自动显微薄膜厚度测绘仪
  • 非接触式、非破坏性的测试系统
  • 集成实时摄像头,监控测量点
  • 配备显微物镜,支持检测小尺寸样品
  • 软件界面直观,操作方便省时

应用实例
(1)膜厚仪在某晶振行业的应用

晶振行业一般使用石英震荡法进行测试膜厚,对于比较薄的膜(几微米及以下级别),通常准确度达不到需求。
某晶振行业采用我们的仪器进行的膜厚进行测试,得到了良好结果。

(2)膜厚仪在二氧化硅测量的应用

二氧化硅薄膜以其优异的性能在半导体、微波、光电子、光学器件以及薄膜传感器等领域获得了广泛的应用,因此非常有必要对其膜厚进行监测和控制。
测试结果

(3)膜厚仪在派瑞林涂层上的应用
派瑞林涂层广泛的应用于PCB板及相关的电子器件涂层。其有优异的电绝缘性和防护性,是当代最有效的防潮、防霉、防腐、防盐雾涂层材料。

测试结果

(4)PET薄膜的测试

PET反光膜的特点是薄膜具有优良的光学性,可以用在高档真空镀铝等品,可达到良好的效果,现对PET薄膜进行测试
测试结果

使用膜厚仪对PET薄膜测试,稳定性较好,与客户的真值差异较小。
仪器参数

总结

SM系类膜厚仪采用薄膜反射光干涉原理可广泛的应用于半导体、光刻胶、晶振、多晶硅、氮化层等行业的膜厚测试。测试具有无损、快速、准确等特点,具有广泛的应用场景,同时可按照用户的需求进行定制测量。如您对以上方案感兴趣或者有其它的膜厚应用场景,或想了解更多方案设计细节,欢迎致电4008-508-928咨询。


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