7月27日网络讲座：原子力显微镜在光掩模上的应用

  在先进半导体制程领域中，光刻技术扮演着极其重要且关键的角色。其中，光掩模作为微缩图形的来源，如何确保其图形正确而不被缺陷所影响，缺陷检测与修复成了光掩模不可或缺的工序。

  文中介绍原子力显微镜作为高精度纳米级定位与量测系统，可用来针对光掩模上的缺陷形貌、尺寸大小、定位缺陷位置与种类做进一步检验 (Defect Review)，并生成三维形貌和其他关键性的计量数据,亦可作为电子束或是激光修补机台的定期机况监控，给予及时的制程条件反馈。

  此外，原子力显微镜作为高精度探针操控平台，搭配适宜的高机械强度的探针，可针对光掩模上的图案缺陷进行纳米级微加工处理，将缺陷推动使之与光掩模材料结合力弱化，后续导入清洗工序可有效去除缺陷，亦可以直接将缺陷推移至无效区域，使其不干预光刻过程从而达到缺陷移除或修复之目的。

  更甚者，可利用探针操控技术直接将缺陷从光掩膜上"叼起"，不仅达到缺陷快速移除的目的，更能将叼起的缺陷做后续进一步详细物性分析，理清缺陷种类、材料、并加以推测可能污染来源机制，防范于未然。