2023-07-06 13:09:14, 优尼康 优尼康科技有限公司
第十七届慕尼黑上海光博会将于2023年7月11-13日在国家会展中心(上海)6.1H、7.1H、8.1H馆隆重举办,本届展会展示面积将达到80,000平方米,预计吸引全球1100余家光电行业知名企业入驻,超过80,000名海内外观众莅临现场参观洽谈。
优尼康也将携带多款设备参加此次盛会,现场还会有特别活动赠送精美小礼品,欢迎您莅临参观。
展会时间:
2023年7月11日 - 7月13日
展会地点:
国家会展中心(上海)
展位:7.1E244
官网免费快速报名入口
展台现场会有神秘活动
等待您的参与
参展设备
F50 膜厚测量仪
F50可以非常简单地获得直径450毫米的样品薄膜厚度分布图。采用r-θ 极坐标移动平台,可以快速定位所需的测试点并且实时获得测试厚度,大约每秒测试两点。
相关应用:半导体制造(光刻胶、氧化物/氮化物/SOI、晶圆背面研磨);LCD 液晶显示器(聚酰亚胺、ITO 透明导电膜);光学镀膜(硬涂层、抗反射层);MEMS 微机电系统(光刻胶、硅系膜层)。
P7 台阶仪
P-7可以对台阶高度、粗糙度、翘曲度和应力进行2D和3D测量,其扫描可达150mm而无需图像拼接。
相关应用:薄膜/厚膜台阶;蚀刻深度量测;光阻/光刻胶台阶;柔性薄膜;表面粗糙度/平整度表征;表面曲率和轮廓分析;薄膜的2D stress量测;表面结构分析;表面的3D轮廓成像;缺陷表征和缺陷分析。
R50四探针电阻率测量仪
Filmetrics R50 系列提供接触式四点探针 (4PP) 和非接触式涡流 (EC)测量。 1 点/秒的速度映射导电膜的电阻率/电导率。电动 X-Y 载物台使用标准晶片吸盘定制样品架,可测量 300mm 的样品,或200mm 的面积。
相关应用:硅片掺杂;金属层厚度测试;晶圆片电阻率测试
Profilm3D 白光干涉光学轮廓仪
Profilm3D 使用先进的垂直干涉扫描 (WLI) 与高精度的相位干涉 (PSI) 技术。以强大的性价比实现次纳米级的表面形貌研究。
相关应用:粗糙度测量;三维形貌表征;台阶高度测量
FS-1 多波长椭偏仪
Film Sense FS-1多波长椭偏仪采用寿命长 LED 光源和非移动式部件椭偏探测器,可在操作简单的紧凑型椭偏仪中实现可靠的薄膜测量。
相关应用:二氧化硅和氮化物,高介电和低介电材料,非晶和多晶材料,硅薄膜,光刻胶。高和低指数薄膜,如 SiO2, TiO2, Ta2O5, MgF2 。TCO(如 ITO),非晶硅薄膜,有机薄 膜(OLED 技术)等
我们深耕薄膜测量行业十多年,不论您在薄膜测量方面有什么问题,我们的技术专家都可以为您提供有价值的建议或解决方案。欢迎来电,我们很高兴与您讨论您的应用问题。
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咨询电话: 400-186-8882
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