赋能创“芯” | 赛默飞助力半导体开启良率提升新征程！

赛默飞为半导体及相关行业的关键环节提供多层次技术支撑，为客户提供全方位的分析方案，电感耦合等离子体光谱仪（ICP-OES）、电感耦合等离子体质谱仪（ICP-MS）、高分辨电感耦合等离子体质谱仪（HR-ICP-MS）、辉光放电质谱仪（GD-MS），全面的产线为半导体痕量金属元素分析保驾护航；全球领先的离子色谱（IC）可提供先进的痕量离子态杂质解决方案，挑战离子检测极限；更有气质联用仪（GCMS）提供的洁净空气VOCs检测方案、高分辨质谱仪加持对半导体材料未知物定性定量的检测等。从半导体材料、集成电路制造到封装测试，赛默飞能为半导体制造过程的质量控制提供稳健可靠的分析方法，助力全面提升产品良率！

赛默飞全方位的ICPMS技术，拥有从单杆到三重四极杆以及高分辨ICPMS全产品线平台，具有差异化的干扰去除技术，提高生产力，广泛用于半导体行业用材料的质量控制分析，避免由样品制备引起的污染。

GD-MS（辉光放电质谱仪）是在双聚焦高分辨质谱的技术上，采用快速流辉光放电离子源，实现高纯固体样品直接分析的最佳工具，具有检出限低、基体效应小、制样简单和全元素快速检测的突出优势。针对半导体行业需求，可实现高纯（≥5N）铜、铝、钛、钽、钼等高纯溅射靶材中70种以上杂质元素快速检测；硅、碳化硅（SiC）、氮化镓（GaN）等基材从原料至晶圆的全元素杂质检测；SiC等外延片镀层化学成分及杂质含量分布。

赛默飞先进的离子色谱和相关技术能为高纯水痕量阴阳离子分析提供离线和在线监测方案，为电子级高纯试剂中ppb-ppm级阴离子和百分比级混酸的含量提供检测方案，并为半导体生产环境空气中痕量阴阳离子的分析提供解决方案。

以高纯氢氟酸检测为例，SEMI推荐赛默飞的谱睿二维方案，一维色谱中使用排斥柱将氟离子和其他常见阴离子预分离，通过调节保留时间窗口，将高浓度的氟离子排到废液中，其他阴离子被选择性浓缩富集，富集的阴离子部分在二维色谱中通过离子交换方式实现分离检测，实现对高纯氢氟酸中痕量阴离子杂质的检测。

半导体级超纯水生产过程中，传统分析方法往往需要离线采样，赛默飞提供Integral在线离子色谱方案，通过多位点自动采样、浓缩和分析的监测，实现对超纯水中多种阴阳离子污染物24H/7D在线监测，为集成电路生产稳定高效运转提供保障。

△赛默飞离子色谱过程实时监控分析-Integral

光刻胶是光刻工艺最重要的耗材，光刻胶的质量对光刻精度至关重要，其样品状态粘稠，含有树脂、单体、光引发剂等复杂基质，无法直接进样分析。对于光刻胶及相关材料中痕量卤素的检测，赛默飞推出CIC在线燃烧离子色谱法，通过燃烧消除基质影响，燃烧后的吸收液进样离子色谱检测阴离子，残渣溶解后进样ICPMS检测金属离子，实现一样两用，对光刻胶样品进行全面分析。

对于贯穿整个生产工艺流程的洁净室和微环境，赛默飞能为废水、废气中的各项污染物提供准确的分析解决方案，以及提供VOCs和污染离子的24小时在线监测。

化学分析与检测对集成电路生产非常重要，确保芯片生产质量，改善良品率，赛默飞全线产品拥有应对半导体所有挑战的技术。除了常规检测外，还有多项赛家半导体独门武艺蓄势待发，如高分辨液质联用加持生产中未知物定量定性检测、GDMS赋能靶材、高纯硅中的杂质检测、半导体材料全面检测方案等系列特色检测方案，将在后续赛默飞赋能创“芯”系列文章中逐一道来，敬请期待！

长按识别下方二维码或点击阅读原文，进入赛默飞色谱与质谱半导体解决方案专题页面。

         点击阅读原文也能了解更多哟！