SilcoNert®2000---顶级的惰性涂层， 也称Sulfinert®

SilcoNert®2000是非晶硅的化学保护屏障，其进一步提供可用的惰性表面。通过应用化学气相沉积（CVD），SilcoNert®2000非常适用于硫化物、汞、氨或其他活性化合物的痕量级测试精度（百万分之一）。

特色与优势

• 非视距工艺:所有孔和复杂的几何形状都能被涂层

• 消除吸附和再测试

• 获得更快的校准

• 数据真实可靠

分析领域

化工行业

废气处理

油气采样

产品规格

薄膜材质：表面烃化的氢化非晶硅镀膜工艺：热化学气相沉积法(非等离子法)最高使用温度：450°C（惰性气体），400°C（氧化性气体）材质和形状要求:

兼容性:不锈钢合金、陶瓷、玻璃、钛及大多数特殊金属

尺寸:最长不超过78英寸(198厘米) 

形状:不限,可镀任何复杂三维结构

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