2020-12-27 19:09:08, 阿拉丁试剂 上海阿拉丁生化科技股份有限公司
阿拉丁公司作为一家高新技术企业,拥有一流的技术力量,具有强大的产品研发能力,每年研发出数百种新产品投入市场。公司核心技术包括离子对色谱级产品制备工艺技术,高纯产品超声波提纯技术、超纯产品分级冷冻结晶提纯技术、无水级试剂产品制造技术等。目前公司拥有 30000 余种产品,超过 50% 为专有产品。
迄今为止,阿拉丁共申请国家专利 39 项,获正式授权 18 项。其高纯试剂主要包括纯度为99.99%-99.9999%试剂、光谱纯试剂、色谱纯试剂,其中部分高纯试剂生产技术已相当成熟,。此次主要为大家推荐我们的99.99%-99.9999%的高纯试剂,此部分产品可以满足大家的特殊需求。
高纯试剂定义
纯度远高于优级纯的试剂叫做高纯试剂。是在通用试剂基础上发展起来的,是为了专门的使用目的而用特殊方法生产的纯度最高的试剂。高纯试剂控制的是杂质项含量,基准试剂控制的是主含量,基准试剂可用标准溶液的配制,但高纯试剂不能用于标准溶液的配制(单质氧化物除外)。
目前高纯试剂可简单分为以下几类:
1. 纯度99.99%(简写为4N)、99.999%(简写为5N)、99.9999%(简写为6N);
2. 光谱纯;
3. 电子工业用;
4. 萤光纯;
5. 色谱纯;
6. 分光纯;
7. 原子吸收纯。
高纯试剂纯度的定义
1. 纯度是由100% 减去杂质总量计算求得的。
2. 在计算杂质总量时,通常只累计试样中存在的金属阳离子和某些非金属离子(如磷、硫、硅等)的总量,而一般不累计阴离子的总量。
3. 在累计阳离子杂质总量时,不必要也不可能求出所有阳离子的杂质总量,而通常只累计常见元素、主体的伴生元素和工艺中容易引进的元素,其数目为十多个、二十多个或三十多个不等,根据试样的情况和测试手段不同而定。
高纯试剂含量的定义
对高纯试剂来说,影响含量大小的主要因素是试样中的水分、氧、氢、碳和其他阴离子含量的大小。影响含量的因素对纯度没有任何影响。
根据用途来划分,高纯试剂还可分为以下几类:
●普通高纯试剂
是指一些高纯单质金属、氧化物、金属盐类等,常用于原子能工业材料、电子工业材料、半导体基础材料等,金属单质的氧化物、用来配制标准溶液和作为标准物质,该类试剂常要求含量在4N-6N 之间。
●超净电子高纯纯试剂
超净高纯试剂是集成电路(IC)制造工艺中的专用化学品,用于硅片清洗、光刻、腐蚀工序中。对这种高纯试剂中可溶性杂质和固态微粒要求非常严格,为适应IC 集成度不断提高的需求,国际上半导体工业协会(SemiconductorIndustryAssociation)近来推出Semic7( 适合0.8-1.2 微米工艺技术) 和Semic8( 适合于0.2-0.6 微米工艺技术) 级别的试剂质量标准。我国在原有MOS 级、BV-I 级试剂的基础上,又制定出BV-II 级和BV-III 级试剂标准(相当于Semic7)。还研究出多种MOS 级、BV-I 级BV-II 级和部分BV-III 级试剂,其颗粒度(0.5 微粒颗粒)≤ 25-100 个∕ ml,金属杂质总量≤ 10-3—10-5 ﹪。
●光刻胶高纯试剂
光刻工艺是一种表面加工技术,在半导体电子器件和集成电路制造中占有重要地位。为在表面实现选择性腐蚀,采用一类具有抗蚀作用的感光树脂材料作为抗蚀涂层,称为抗蚀剂,国内通称光刻胶。按照溶解度的不同而将光刻胶分为“正性”光刻胶和“负性”光刻胶,按所用曝光光源和辐射光源的不同,又可将其分为紫外、远紫外、电子束、X 射线等光刻胶。光刻胶是微细图形加工的一种关键试剂,要求水分低、金属杂质含量低(≤ 10-6)
●磨抛光高纯试剂
是指用于硅单晶片表面的研磨和抛光的高纯度试剂。它又分磨粉(三氧化二铝)和磨液(水和油剂),能研磨表面达到微米级加工精度。这类试剂要求颗粒粒度小(纳米),纯度高,金属杂质一般要求2.0×10-4—5×10-5 ﹪。
●液晶高纯试剂
液晶是一类电子化学材料,是指在一定温度范围内呈现介于固相和液相之间的中间相的有机物。它既有液态的流动性也有晶态的各向异性,有时人称他为第四态。液晶种类繁多,用途最广,前景最大的要属TN( 低档)、STN(中高档)、TFT(高档)型。TN、STN 及TFT 三种型号所组成的单体液晶,主要包括芳香酯类、联苯类、苯基环已烷类、铁电类以及含氟液晶品等五种,它们是当今及今后使用及发展的主要对象。这类高纯试剂要求含量高(≥ 99 ﹪),水分含量低(≤ 10-6),金属杂质含量少(≤ 10-6)。借助液晶独特的光、电子特性可以用于检查飞机、人选卫星等装置上的缺陷,在医学上用来诊断癌症、结核等病症。
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