颇尔微电子 | IPA过滤与纯化解决方案

异丙醇（IPA） 广泛应用半导体蚀刻清洗后干燥辅助。IPA的气化点低，而且表面张力小，所以不会引起因为应力导致的晶圆表面的结构坍塌。

IPA中含有颗粒或金属离子对芯片影响

IPA中含有颗粒或者金属离子可能对当站制造工艺以及后续制造工艺造成缺陷，导致wafer良率降低以及产品可靠性降低。所以去除IPA中颗粒和金属离子变得尤其重要。

颇尔微电子IonKleen™产品增强颗粒去除和金属离子去除效率。

颇尔微电子IPA过滤与纯化解决方案的优势

-专有的生产后清洗提供最低的非挥发性有机物(NVR)

- 提高了所有金属的去除效率(MRE)

- 更大的离子交换容量(IEC)

- 在异丙醇中快速洗净颗粒

- 改进的粒子拦截效率降低了晶圆上的缺陷

- 适用于室温和高温异丙醇

- 大面积低压差设计

颇尔微电子IonKleen™纯化器是专门为在常温至80度的异丙醇中去除颗粒和金属离子而设计的。该纯化器使用了一种具有专利和特有的表面改性的纯PTFE基质，该基质结合了离子交换基团，可以自发迅速地从异丙醇和其他溶剂中去除金属离子。XpressKleen™ 第二层PTFE膜提供颗粒去除到2纳米。双重功能的介质组合在大面积设计中组装，最大限度地提高金属去除效率(MRE)和离子交换能力(IEC)，同时最小化压降。这使得纯化器适用于使用点和再循环应用。在洁净室环境中，完全集成的制造过程采用最终的极端清洁过程，产生超低的非挥发性残留物(NVR)和快速的颗粒冲洗时间。所有含氟聚合物材料保证了优异的清洁度和在高温异丙醇下长期使用的低溶出率。

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