2015全国表面分析应用技术学术交流会胜利召开

2018-11-10 14:33:48 赛默飞世尔科技(中国)有限公司


赛默飞近日与中科院化学研究所、全国微束分析标准化技术委员会表面分析分技术委员会、北京师范大学和北京化工大学联合在武汉举办 “2015全国表面分析应用技术学术交流会”。会议盛邀来自全国各高校、研究所的专家和专业人员等100余位嘉宾出席,赛默飞分子光谱全球副总裁Susan Ottmann女士、全球市场总监Martin Long先生,XPS产品全球市场经理Richard White先生也专程来华参加此次会议。

在会上,Susan Ottmann女士和Richard White先生首先致辞,欢迎全国从事表面分析研究与分析的新老朋友共聚一堂,探讨XPS的前沿发展、分享最新应用、使用仪器的心得。随后,围绕表面分析技术的最新动态、表面分析技术的专家级经验以及XPS的最新应用等领域,来自高校和研究所的多位专家和专业研究人员展开了热情洋溢的报告。

来自北京师范大学的吴正龙教授和大连化物所的盛世善老师分别在XPS分析测试领域均拥有几十年的丰富经验,他们为大家详细介绍了过渡金属化合物材料的复杂图谱状态以及产生的原因,讲解了如何从众多复杂的XPS图谱中得到有价值的实验结果,盛老师还结合其在文献上找到的错误给大家上了一堂有趣生动的复习课。

清华大学姜鹤老师和武汉大学的刘英老师,详细介绍了XPS深度剖析的最新应用以及团簇离子枪发展历史和背景,使用赛默飞MAGCIS复合型离子枪很好的解决了XPS一个世纪发展以来无法进行的聚合物材料深度剖析的问题,并提供了很好的无机、有机材料的表面无损清洁和溅射方案,丰富的应用实例使大家深刻感受到XPS技术发展的迅猛。

为说明仪器的工作原理,促进同行之间的技术交流,北师大吴正龙教授,北京化工大学程斌教授以及华东理工的蒋栋博士就仪器各参数对XPS数据分析的影响进行了介绍,让大家更深入的了解到如何得到高质量的XPS数据,如何得到更高精度的XPS定量数据等等。这些简单的参数的分享解决了很多平时困扰大家的疑难,赢得了大家热烈的掌声。

上海计量院徐建教授在会议上宣贯了《表面化学分析 俄歇电子能谱和X射线光电子能谱 横向分辨率测定GB/T 28632-2012》,介绍了多种仪器横向分辨率的测定方法,进一步为大家普及了表面分析的一些标准技术。

随着XPS表面分析技术的发展,在各行各业的应用领域也越来越广泛。中山大学徐建教授和谢方艳博士分别就样品表面3D成像技术得到纳米级分辨率的深度剖析信息以及反光电子能谱技术进行了形象的介绍,丰富而新颖的技术和想法大大吸引了与会研究者的目光。会议中诸位老师还对XPS在新型能源Li电池行业、与人们生活息息相关的大气颗粒物检测、热电材料、腐蚀科学、激光薄膜等行业和领域的应用进行了分享和交流讨论。

本届会议新增了讨论环节,大家就目前关心的几个话题做了热烈、充分的讨论,大家详细讨论钢铁行业的深度剖析的一些难题,XPS图谱分析技术的瓶颈, UPS和XPS检测技术的性能对比等等话题,并以此向赛默飞提出了更多期望,希望赛默飞与众位XPS研究者共同进步。

期间,赛默飞隆重发布了新产品Thermo Scientific™ K-Alpha+ X射线光电子能谱仪,其性能、指标大大优于上一代K-Alpha,媲美世界一流的XPS系统,其高度集成和自动化,并发展开拓了更多XPS兼容附件,使得XPS的分析样品范围、应用领域更广泛,是一款同时满足XPS科学研究和工业领域高通量测试研究的专业XPS利器。

会议现场

新品发布

Thermo Scientific K-Alpha+ X射线光电子能谱仪详情:

www.thermoscientific.cn/product/k-alpha-x-ray-photoelectron-spectrometer-xps-system.html


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