MProbe UVVisSR薄膜测厚仪

MProbe UVVisSR薄膜测厚仪大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且稳定的被测量。比如：氧化物，氮化物，光刻胶，高分子聚合物，半导体(硅，单晶硅，多晶硅)，半导体化合物(AlGaAs, InGaAs，CdTe, CIGS)，硬涂层(碳化硅，类金刚石炭)，聚合物涂层(聚对二甲苯，聚甲基丙烯酸甲酯，聚酰胺)

该机大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且稳定的被测量。比如：氧化物，氮化物，光刻胶，高分子聚合物，半导体(硅，单晶硅，多晶硅)，半导体化合物(AlGaAs, InGaAs，CdTe, CIGS)，硬涂层(碳化硅，类金刚石炭)，聚合物涂层(聚对二甲苯，聚甲基丙烯酸甲酯，聚酰胺)

测量范围: 1 nm -50um    

波长范围: 200 nm -1000 nm

MProbe UVVisSR薄膜测厚仪适用于实时在线测量，多层测量，非均匀涂层, 软件包含大量材料库(超过500材料)，新材料可以很容易的添加，支持多重算法：Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等。

测量指标：薄膜厚度，光学常数

界面友好强大: 一键式测量和分析。

实用的工具：曲线拟合和灵敏度分析，背景和变形校正，连接层和材料，多样品测量，动态测量和产线批量处理。

（MProble NIR薄膜测厚仪系统示 ）

系统性能参数：

案例1，73nm SiN氮化硅薄膜的测量

硅晶圆反射率，测量时间10ms

使用Tauc-Lorentz模型，测量SiN薄膜的n和k值

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