MProbe UVVisSR薄膜测厚仪大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且稳定的被测量。比如:氧化物,氮化物,光刻胶,高分子聚合物,半导体(硅,单晶硅,多晶硅),半导体化合物(AlGaAs, InGaAs,CdTe, CIGS),硬涂层(碳化硅,类金刚石炭),聚合物涂层(聚对二甲苯,聚甲基丙烯酸甲酯,聚酰胺)
该机大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且稳定的被测量。比如:氧化物,氮化物,光刻胶,高分子聚合物,半导体(硅,单晶硅,多晶硅),半导体化合物(AlGaAs, InGaAs,CdTe, CIGS),硬涂层(碳化硅,类金刚石炭),聚合物涂层(聚对二甲苯,聚甲基丙烯酸甲酯,聚酰胺)
测量范围: 1 nm -50um
波长范围: 200 nm -1000 nm
MProbe UVVisSR薄膜测厚仪适用于实时在线测量,多层测量,非均匀涂层, 软件包含大量材料库(超过500材料),新材料可以很容易的添加,支持多重算法:Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等。
测量指标:薄膜厚度,光学常数
界面友好强大: 一键式测量和分析。
实用的工具:曲线拟合和灵敏度分析,背景和变形校正,连接层和材料,多样品测量,动态测量和产线批量处理。
![1.jpg](http://kaiyue-sh.com/Upload/ueditor/images/2016-12-14/1-cc8f3672-4a77-4107-8dc4-c4cd0e6a25a6.jpg)
(MProble NIR薄膜测厚仪系统示 )
系统性能参数:
![2.jpg](http://kaiyue-sh.com/Upload/ueditor/images/2016-12-14/2-4d0e7ec7-4760-4eb4-8bd2-d612c9ba21cb.jpg)
![3.jpg](http://kaiyue-sh.com/Upload/ueditor/images/2016-12-14/3-e928dc91-8977-419b-9192-4dda355e5762.jpg)
![4.jpg](http://kaiyue-sh.com/Upload/ueditor/images/2016-12-14/4-4a1945cf-d4ea-4deb-ba7f-ac3d2fcaa58e.jpg)
案例1,73nm SiN氮化硅薄膜的测量
![案例1,73nm SiN氮化硅薄膜的测量.png](http://kaiyue-sh.com/Upload/ueditor/images/2016-12-14/%E6%A1%88%E4%BE%8B1%EF%BC%8C73nm%20SiN%E6%B0%AE%E5%8C%96%E7%A1%85%E8%96%84%E8%86%9C%E7%9A%84%E6%B5%8B%E9%87%8F-471585d4-c102-451c-b004-e85cf58bd2db.png)
硅晶圆反射率,测量时间10ms
![硅晶圆反射率,测量时间10ms.png](http://kaiyue-sh.com/Upload/ueditor/images/2016-12-14/%E7%A1%85%E6%99%B6%E5%9C%86%E5%8F%8D%E5%B0%84%E7%8E%87%EF%BC%8C%E6%B5%8B%E9%87%8F%E6%97%B6%E9%97%B410ms-f590db4a-4383-4b26-85fd-21cb2eab25fb.png)
使用Tauc-Lorentz模型,测量SiN薄膜的n和k值
![使用Tauc-Lorentz模型,测量SiN薄膜的n和k值.png](http://kaiyue-sh.com/Upload/ueditor/images/2016-12-14/%E4%BD%BF%E7%94%A8Tauc-Lorentz%E6%A8%A1%E5%9E%8B%EF%BC%8C%E6%B5%8B%E9%87%8FSiN%E8%96%84%E8%86%9C%E7%9A%84n%E5%92%8Ck%E5%80%BC-eae45565-fd91-4e22-be3e-2f229aedae9b.png)
MProbe UVVisSR薄膜测厚仪,MProbe UVVisSR
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