您好,欢迎您查看分析测试百科网,请问有什么帮助您的?
如果企业客服不在线,也可拨打400电话联系。或者发布求购信息
Quantum Design电子束刻蚀Microwriter ML3用于测定MoS2、Cr2S3,符合行业标准High-Performance Wafer-Scale MoS2 Transistors toward Practical Application. Small 2018, 1803465。适用无掩膜光刻直写项目。
小型台式无掩膜光刻系统
小型台式无掩膜光刻系统Microwriter ML3是英国Durham Magneto Optics公司专为实验室设计开发,为微流控、SAW、半导体、自旋电子学等研究领域提供方便高效的微加工方案。
传统的光刻工艺中所使用的铬玻璃掩膜板需要由专业供应商提供,但是在研发环境中,掩膜板的设计通常需要经常改变。无掩膜光刻技术通过以软件设计电子掩膜板 的方法,克服了这一问题。与通过物理掩膜板进行光照的传统工艺不同,激光直写是通过电脑控制一系列激光脉冲的开关,在光刻胶上直接曝光绘出所要的图案。
Microwriter ML3 是一款多功能激光直写光刻系统,具有结构小巧紧凑(70cm X 70cm X 70cm),无掩膜直写系统的灵活性,还拥有高直写速度,高分辨率的特点。采用集成化设计,全自动控制,可靠性高,操作简便。适用于各种实验室桌面。
产品特点
点击“Bulls-Eye”按钮,系统自动在显微镜图像中识别光刻标记。标记物被识别后,将自动将其移动到显微镜中心位置。
产品参数
应用实例
直写分辨率1μm
直写分辨率0.6μm
微电制备
光刻胶上的图形 Au电 (SEM) Au电(SEM)
设计图 光刻胶上的图 形 放大图的显微结构
微结构制备
微流通道制备
电子束刻蚀Quantum DesignMicrowriter ML3 应用:小型无掩膜光刻直写系统(MicroWriter)的新研究应用,Microwriter ML3
电子束刻蚀Quantum DesignMicrowriter ML3 应用:小型无掩膜光刻直写系统(MicroWriter)的新研究应用信息由QUANTUM量子科学仪器贸易(北京)有限公司为您提供,如您想了解更多关于电子束刻蚀Quantum DesignMicrowriter ML3 应用:小型无掩膜光刻直写系统(MicroWriter)的新研究应用报价、型号、参数等信息,欢迎来电或留言咨询。
高精度光学浮区法单晶炉
群组论坛--样品前处理
您可能要找:Quantum Design电子束刻蚀电子束刻蚀Quantum DesignMicrowriter ML3 应用:小型无掩膜光刻直写系统(MicroWriter)的新研究应用价格Microwriter ML3电子束刻蚀参数
Copyright ©2007 ANTPedia, All Rights Reserved
京ICP备07018254号 京公网安备1101085018 电信与信息服务业务经营许可证:京ICP证110310号