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北方华创HORIC L200卧式低压化学气相沉积系统
参考价：面议
品牌与制造商：北方华创 产地：中国 型号：HORIC L200 官方样本下载：来电或留言获取样本
数据更新时间：2026-10-16
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产品官方概述
HORIC L200 LPCVD系统，主要用于半导体产线8英寸及以下晶圆淀积SiN、POLY、SiO₂等薄膜，设备工艺性能好、产能大、可靠性高，可满足半导体领域的多种产线需求。
以下内容综合自北方华创官方技术规格及公开资料信息
官方技术参数
| 产地与供应商：国产 |
