SUSS MA12 Gen3 有掩模光刻机

MA12 Gen3 掩模光刻机是一款半自动化掩模对准机，适用于最大 300 毫米的晶圆，将成熟的光刻技术与优良的压印处理技术相结合。它为 MEMS、优良封装和研发提供了经济高效的曝光、高对准精度和工艺灵活性。

MA12 Gen3 掩模光刻机特点：

增强型 SUSS' 平整系统

苏斯优良的平整系统在堆叠过程中使用直接、实时的间隙测量，实现基板、掩模与基板对准机之间的高精度平行，确保最佳的接触和对准精度。

出色的光照均匀性

MO 曝光光学系统® 是 基于微透镜的照明系统，可提供远心曝光，具有优异的均匀性和更大的工艺窗口。即插即用的角度设置和解耦光源设计减少了维护工作，同时保证了灯管在整个使用寿命内性能始终如一。

优化处理翘曲和敏感材料

专用工具包支持翘曲或弓形晶圆，即使在非平面基板上也能有效对准。真空卡盘、软接触/近距曝光模式和可调整的对准光学系统（顶面、底面、红外）可保护易碎材料免受应力和损坏。

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