定制的高 NA 写入镜头和低失真 UV 光学元件

高精度

全空气轴承级;零热膨胀 ZERODUR® 卡盘;高分辨率差分干涉仪;载物台校正和刀具匹配功能

高吞吐量

基于 Fast SLM 的曝光引擎;快速模式;6 英寸写入时间低于 45 分钟

客户应用

ULTRA 的数据路径设计为能够处理复杂的几何形状和密集的图案，同时保持高曝光速度——即使是圆形或圆形特征也可以轻松写入。该图显示了在铬中蚀刻的圆 （Ø 5 μm），线宽为 600 nm。

该光学显微镜图像显示了线宽为 700 nm 的铬蚀刻结构。

在铬中蚀刻的规则结构显示均匀性（线宽 1 μm）。 具有顶部照明的光学显微镜图像。

该图显示了 500 nm 的倾斜线和间距。精度和均匀性是关键因素，它们与 SAW 滤波器、印刷电路和光栅等光子结构等许多应用具有重要意义。

硅晶圆上的 500 nm 孔，高密度 IP3250 光刻胶。曝光的均匀性。

在 550 nm 厚的正性光刻胶中曝光的波导图案的 SEM 图像，显示出漂亮光滑的边缘和尖锐的垂直壁。 （由 IMS Chips 提供）