ULTRA 是一种经济实惠的掩模写入器解决方案，具有高通量、精度和结构均匀性以及极其精确的对准所需的所有特性和功能。标准配置包括全自动掩模处理、Zerodur® 平台、低失真光学元件和高精度位置控制等功能。
ULTRA 系统可以在高达 580 mm 的写入速度下生产低至 500 nm 的结构尺寸2同时具有出色的关键尺寸均匀性、图像质量、叠加和套准。作为一个紧凑的系统，它很容易适应现有的掩膜基础设施。

产品亮点

高曝光质量

定制的高 NA 写入镜头和低失真 UV 光学元件

高精度

全空气轴承级;零热膨胀 ZERODUR® 卡盘;高分辨率差分干涉仪;载物台校正和刀具匹配功能

高吞吐量

基于 Fast SLM 的曝光引擎;快速模式;6 英寸写入时间低于 45 分钟

客户应用

Name: 德国海德堡 ULTRA高速掩膜版制作高端光刻机
Brand: 海德堡仪器
SKU: ULTRA

ULTRA 上的曝光

ULTRA 的数据路径设计为能够处理复杂的几何形状和密集的图案，同时保持高曝光速度——即使是圆形或圆形特征也可以轻松写入。该图显示了在铬中蚀刻的圆（Ø 5 μm），线宽为 600 nm。

ULTRA 上的曝光

该光学显微镜图像显示了线宽为 700 nm 的铬蚀刻结构。

ULTRA 上的曝光

在铬中蚀刻的规则结构显示均匀性（线宽 1 μm）。具有顶部照明的光学显微镜图像。

该图显示了 500 nm 的倾斜线和间距。精度和均匀性是关键因素，它们与 SAW 滤波器、印刷电路和光栅等光子结构等许多应用具有重要意义。

ULTRA 上的曝光

硅晶圆上的 500 nm 孔，高密度 IP3250 光刻胶。曝光的均匀性。

ULTRA 上的曝光

在 550 nm 厚的正性光刻胶中曝光的波导图案的 SEM 图像，显示出漂亮光滑的边缘和尖锐的垂直壁。（由 IMS Chips 提供）

技术数据

	QX 模式	FX 模式
写入性能
地址网格 [nm]	4	10
线边粗糙度 [3σ， nm]	20	40
位置精度 [3σ， nm]	40	80
叠加 [3σ， nm]	30	60
拼接 [3σ， nm]	20	60
第 2 层对齐 [最大误差 / nm]	100	100
CD 均匀性 [3σ， nm]	30	60
最小特征尺寸 [nm]	500	700
写入速度 [mm² / min]	325	580
6“ x 6” 的写入时间 [分钟]	75	45

操作
用户界面（软件）	符合 SEMI 标准的 GUI
最大写入区域	228 x 228 mm² （可根据要求提供其他尺寸）
基板尺寸	4 英寸、5 英寸、6 英寸、7 英寸和 9 英寸掩模（可根据要求提供更大的和其他基材）

系统特点
光学	0.9 NA 物镜低失真紫外光学元件自动校准程序
激光	波长为 355nm 的高功率二极管泵浦固体激光器
对焦系统	实时光学自动对焦
对准	摄像系统失真补偿全局和逐场对准边缘检测器
数据路径	实时压缩可扩展的硬件概念输入格式：所有标准格式，例如 GDSII 和 Jobdeck
空间光调制器	频率 350 kHz 数据速率 2.4 GB/s
自动化	带有两个最大 9 英寸的载板站的全自动口罩处理;可选的 SECS/GEM 协议

系统尺寸	系统 / 电子机架
宽度 [mm]	2995 / 800
深度 [mm]	1652 / 650
高度 [mm]	2102 / 1800
重量 [kg]	3400 / 180

安装要求
电气	400 VAC ± 5%，50/60 Hz，16A，3 相
压缩空气	7 - 10 bar （无油或其他残留物）

请注意，规格取决于各个工艺条件，并且可能因设备配置而异。写入速度取决于像素大小和写入模式。设计和规格如有更改，恕不另行通知。

德国海德堡 ULTRA高速掩膜版制作高端光刻机信息由德国海德堡仪器/Stella International/光映国际为您提供，如您想了解更多关于德国海德堡 ULTRA高速掩膜版制作高端光刻机报价、型号、参数等信息，欢迎来电或留言咨询。

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德国海德堡 ULTRA高速掩膜版制作高端光刻机

设计用于生产成熟的半导体光掩模

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