SUSS MA/BA Gen4 系列有掩模光刻机

MA/BA Gen4 系列有掩模光刻机代表了标准或优良应用的半自动化掩模对准机和压印处理的两个平台。该系统将久经考验的 SUSS' 光刻技术与全新的自动化和人机工程学特性相结合，确保性能稳定、安全性更高、操作方便，适用于研究、试生产和要求苛刻的工艺环境。

MA/BA Gen4 系列有掩模光刻机特点：

出色的光照均匀性                                           

具有远心照明功能的 MO 曝光光学系统® 可提供出色的光照均匀性和工艺稳定性。可更换的光阑基板和可定制的照明为各种光刻和压印应用提供了灵活性和良率。

高水平的对准精度

MA/BA Gen4 系列提供顶侧、底侧和红外对准功能，可处理各种基板配置。可选的DirectAlign®技术通过实时图像检测实现了 0.5 µm 的对位精度，即使在复杂结构、多层堆叠和具有挑战性的工艺条件下也能确保可靠的对准。

出色的分辨率和图案保真度

硬、软或真空接触模式的分辨率低至 0.8 微米，新型节能封装壳体为全场光刻设定了新的基准。利用定制的 SUSS' 光学模型进行集成模拟，可实现过程可视化、定量预测和参数优化，从而获得最佳结果。

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