北方华创Esther/Eris系列8英寸单片常压/减压硅外延系统

Esther/Eris 系列为单片常/减压式硅外延设备，适用于6/8英寸的硅外延工艺。Esther系列能够实现常压及减压条件下硅基材料的外延生长，并利用红外加热系统将工艺腔室承片基盘（石墨基座）温度稳定在特定温度范围内，配合高均匀度的气体流量控制，实现晶圆规格6/8英寸、硅基外延层生长的硅基材料化学气相外延及精确可调N型、P型掺杂。该设备智能化人机交互设计与高效的安全互锁保障了系统安全和稳定。

设备特点

• 先进的红外加热控制技术和加热模块设计有效提高成膜质量

• 独特的传输系统和工艺模块设计可兼容多种工艺用途

• 友好的人机交互和安全性设计保障系统稳定、安全、高效

• 具有单腔和多腔两种机型，可满足不同客户需求

产品应用

• 晶圆尺寸：6、8英寸

• 适用材料：硅

• 适用工艺：常压:N&P 常压硅外延；减压:埋层外延、选择性外延、多晶外延

• 适用领域：集成电路、科研

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