无掩模紫外光刻机

托托科技UV Litho S无掩模紫外光刻机 

UV Litho S是托托科技高速版系列的主力机型，定位小批量生产、快速迭代、大面积高精度光刻，属于基于DMD数字微镜技术的无掩模紫外光刻设备，主打高效率、大面积、高稳定，兼顾科研验证与小规模量产需求。 

DMD无掩模光刻，无需实体掩模版，大幅降低制版成本与周期，支持图形快速修改与直接绘图。纯扫描式光刻，配合光学主动对焦，保障大面积曝光一致性与聚焦精度。 

核心性能与关键参数 

1. 精度与分辨率 - 特征尺寸：1.0 μm

- 最小等间距线栅：2.0 μm 

- 套刻精度：5 mm×5 mm区域500 nm；50 mm×50 mm区域1000 nm

2. 效率与幅面 

- 光刻效率：镜头①500 mm²/min；镜头②1000 mm²/min；镜头③2500 mm²/min 

- 加工幅面：8英寸，最大样品200 mm×200 mm，最小3 mm×3 mm 

- 样品厚度：0–10 mm，兼容常规晶圆与多种衬底 

3. 光学与配置 

- 光源：LD激光，405 nm（标准）/375 nm（可选） 

- 功能：支持电动镜头切换、灰度光刻（选配）、光学主动对焦、精准套刻 

- 数据格式：兼容GDS、DWG、DXF主流版图格式 

功能亮点与工艺优势 

1. 无掩模灵活迭代 省去掩模制作，图形直接由电脑导入，即改即曝，大幅缩短研发与试产周期，适配多品种、小批量场景。 

2. 高速大面积曝光 最高效率达2500 mm²/min，8英寸幅面满足晶圆级与中等尺寸基板加工，平衡效率与精度。 

3. 主动对焦+精准套刻 光刻前实时对焦，绿光指引光预览对准，保障多层结构套刻精度，适配MEMS、微流控等复杂工艺。 

4. 灰度与阵列能力（选配） 支持4096阶灰度光刻，可做微透镜、衍射光学、浮雕防伪等3D微结构；阵列参数测试快速优化工艺。 

5. 工业级稳定可靠 专为小批量生产设计，温控、供电、承重规格更严苛，长时间连续曝光稳定性优于科研桌面机型。

典型应用场景 

- MEMS器件：微米级图案与多层套刻复杂结构 

- 微流控芯片：高深宽比通道，适配单细胞分析、传感器 

- 二维材料电极：直接绘图电极图案，灵活高效 

- 光学元件：光栅、菲涅尔透镜、微透镜阵列 

- 定制掩模版：小批量快速制备，降低对外依赖 

UV LithoS是托托科技面向工业小批量与高端研发的均衡型高速无掩模光刻机，以DMD技术为核心，兼顾速度、幅面、精度、易用性，省去掩模成本与周期，适配微电子、MEMS、生物医疗、光学器件等多领域，是从实验室走向产业化的关键装备之一。 

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