VTC-600GC-AM连续式多腔室磁控溅射镀膜系统

产品简介

VTC-600GC-AM连续式多腔室磁控溅射镀膜系统是新自主研制开发的镀膜设备，主要由传递室和溅射镀膜室两部分组成，基片架可以在传递室和溅射室实现往复运动，由调频电机控制，自动同步运行，且往复位置和运动速度均可以设定，两室内均有定位功能，可实现原点复位。可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600GC-AM连续式多腔室磁控溅射镀膜系统可选配多个靶枪，配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜，配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜。与同类设备相比，其不仅应用广泛，且具有体积小便于操作的优点，是一款实验室制备材料薄膜的理想设备，特别适用于实验室研究固态电解质及OLED等。

主要特点

• 由传递室和溅射镀膜室两大部分组成，可实现快速连续的进样溅射镀膜。

• 可选配多个靶枪，配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜，配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜（靶枪可以根据客户需要任意调换）。

• 可制备多种薄膜，应用广泛。

• 体积小，操作简便。

• 整机模块化设计，传递室、真空腔室、真空泵组、控制电源分体式设计，可根据用户实际需要调整。

• 可根据用户实际需要选择电源，可以一个电源控制多个靶枪，也可多个电源单一控制靶枪。

技术参数

VTC-600GC-AM连续式多腔室磁控溅射镀膜系统信息由沈阳科晶自动化设备有限公司为您提供，如您想了解更多关于VTC-600GC-AM连续式多腔室磁控溅射镀膜系统报价、型号、参数等信息，欢迎来电或留言咨询。