Nikon EX12B步进式光刻机

简介

Nikon EX12B步进式光刻机专为200mm晶圆设计，采用248nm波长光源，实现优于0.3µm的分辨率，适用于IC、微处理器和存储器等电子元件的大批量生产。其高精度的图案转移能力和用户友好的操作界面显著提高了生产效率，满足现代半导体制造对高质量和高效率的需求。

一、产品概述：

Nikon EX12B 步进式光刻机是一款高精度的半导体制造设备，专为 200mm 晶圆的生产而设计。该机型采用先进的步进光刻技术，能够实现高分辨率和高精度的图案转移，广泛应用于集成电路（IC）、微处理器和存储器等电子元件的制造。凭借其卓越的成像质量和快速的曝光速度，Nikon EX12B 非常适合大批量生产，同时其用户友好的操作界面和高效的自动化功能提升了生产效率。这使得 Nikon NSR 2205i14E 成为现代半导体制造过程中不可或缺的重要工具，满足行业对高质量和高效率的需求。

二、设备用途/原理：

该设备利用高强度光源将掩模上的图案逐步投影到涂有光刻胶的晶圆表面。光源发出特定波长的光线，通过高分辨率光学系统，将掩模图案精确地投影到晶圆上进行曝光。曝光后，光刻胶的化学性质发生变化，接着进行显影，去除未曝光或已曝光的光刻胶，形成所需的图案。随后，利用刻蚀工艺将图案转移到晶圆材料上，最后去除残留的光刻胶。通过这一系列步骤，Nikon SF120/130 能够高效地实现复杂图形的精确转移，满足现代半导体制造的高标准要求。

三、主要技术指标：

分辨率：0.3µm

N.A.：0.55

曝光光源：248nm

倍率：5:1

大曝光现场：22mm*22mm

对准精度：LSA：55nm，FIA：65nm

四、设备特点

Nikon EX12B步进式光刻机

光源波长248nm

分辨率优于0.3µm

主要用于2寸、4寸、6寸及8寸生产线

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