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仪器简介:Nanosis-610是NDD公司和美国斯坦福大学联合研制的zei新纳米压印设备。纳米压印(NIL,Nano Imprint)是一种纳米微制造技术,利用该技术,可以将由电子束光刻(e-Beam Lithiography)或聚焦离子束(FIB)技术制备的模具的纳米结构通过“印章”的办法转移到高分子基底上。纳米压印技术非常重要,产生的压力必须均匀、统一。纳米压印技术应用领域非常宽广,比较典型的应用包括:OLED(有机电致发光二极管)、微流体染料激光器、有机薄膜晶体管(OTFTs)、亚波长光学元器件、Si晶片、塑料以及高分子材料等的纳米微制造。技术参数:1.晶片尺寸:6英寸 2.加工方法:紫外线和加热 3.系统控制:PLC控制全部自动化 4.压印程序:全部自动化 5.紫外灯类型:Hg-Xe主要特点:1.NANOSIS 620可以很方便的将复杂的结构图案进行完全的转移 2.全部自动化(除了安装和拆卸样品) 3.加工效率很高
纳米压印系统(Nano-Imprint),Nanosis-620
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