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仪器简介: 又名:掩膜对准曝光机,曝光系统,光刻系统,光刻机等 全球领先的半导体设备供应商,多年来致力于掩膜对准光刻机和匀胶机研发与生产,并且广泛应用于半导体、微电子、生物器件和纳米科技领域;该公司是目前世界上zei早将光刻机商品化的公司之一,拥有雄厚的技术研发力量和设备生产能力;并且其设备被众多著名企业、研发中心、研究所和高校所采用;依优秀的技术、精湛的工艺和良好的服务,赢得了用户的青睐。 感谢南开大学,中科院半导体所,中科院长春应化所,中科院物理所,浙江师范大学使用此设备做课题研究!! 此型号光刻机是所有进口设备中性能价格比zei高的型号,达到欧美品牌的对准精度,CCD显示屏对准更为方便,液晶触摸屏操作,采用欧司朗紫外灯,寿命长。整机效果皮实耐用,正常使用3年内不会出问题!! 目前,上海蓝光已采用该公司全自动型光刻机做LED量化生产,证明其品质达到LED产业标准要求!! 技术参数: 基片尺寸:4、6、8、12英寸,其他要求支持; 光束均匀性:<±3%; 曝光时间可调范围:0.1 to 999.9秒; 对准精度:1微米,zei高0.6微米(光刻胶厚度1微米时); 分辨率:1微米; 光束输出强度:15-25mW/cm2; 主要特点: 光源强度可控; 紫外、深紫外曝光; 系统控制:手动、半自动和全自动控制; 曝光模式:真空接触模式(接触力可调),Proximity靠近模式, 投影模式; 真空吸盘范围可调; 专利技术:双面对准! 可双面光刻,具有IR和CCD模式 双重CCD显微镜系统,zei大放大1600倍,显示屏直接调节,比传统目镜显微镜对准更方便快捷,易于操作。
光刻机,MDA-400M
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