J200飞秒激光剥蚀进样系统(Applied Spectra（ASI）)

J200飞秒激光剥蚀进样系统是ASI公司的技术团队拥有30多年激光剥蚀技术的基础研究经验和LA-ICP-MS方法的研究背景，系统通过非热过程，施加超高激光辐射剥蚀样品，产生的颗粒能在ICP源完全消解，确保在测量过程中获取高精度、稳定的元素或同位素信号，J200LA-fs剥蚀均匀一致，剥蚀的样品颗粒能代表样品的化学特性，无需高度匹配的标准物质，也能进行高精度、定量LA-ICP-MS测量。

设备特点：

1、测量叶片内部不同部位的元素变化情况以及特定元素的分布情况；

2、同步开关确保稳定的ICP-MS等离子体状态；

3、两个相机提供广角和放大的样品图像和广角图像呈现；

4、自动高度调节传感器、样品室等部件的工作状态；

5、系统能完成具有挑战性的化学分析工作；

6、确保在测量过程中获取高精度、稳定的元素或同位素信号；

7、剥蚀的样品颗粒能代表样品的化学特性，无需高度匹配的标准物质。

J200飞秒激光剥蚀进样系统技术指标：

J200飞秒激光剥蚀进样系统产生的样品颗粒均匀一致，且尺寸分布合理，一般在10-200nm，运输效率高，该设备功能直观、带图形界面，易浏览不同的样品区域，设立灵活的采样方式，用户简单、方便地操作硬件部件，只需简单点击tab键，用户即可检查飞秒激光、气流系统、光模块、3-D操作台、自动高度调节传感器、样品室等部件的工作状态，不同用户组可赋予不同的使用权限，同步开关确保稳定的ICP-MS等离子体状态，防止等离子体火焰喷出。预设阀配置可选择氩气或氦气作为载气或缓冲气。

J200飞秒激光剥蚀进样系统, J200

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