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Lumina-200独立式高分辨率光刻/对准器。 Lumina系列为电子,光电,MEMS和许多其他应用中的高分辨率,精确对准,接触和接近光刻提供了高质量,可靠且经济高效的解决方案。 它具有易于使用的界面,高精度的载物台,高性能的光学元件和较小的占地面积。
主要特点
高分辨率光刻
高精度对准平台
最先进的对准光学
精确的间隙控制
用户友好的PC控制
占地面积小
具有成本效益的设计
背面对齐可选
应用领域:半导体器件 *微机电系统 *光电子学 *高级包装 *电力设备
手册X-Y-?
带称重传感器的电动Z
移动范围: X和Y:1英寸
?:10度
Z:0.25英寸
掩膜加载能力
5”口罩标准
其他尺寸可选
基板装载能力
4”标准
对准 模式:接近、柔和、硬
对准光学
分割栏 5倍物镜,1到7倍变焦
2个独立的手动X,Y,Z显微镜移动 精细粗调
通过CCD相机成像
曝光系统
紫外线:汞灯,带有可选的G线或I线过滤器
紫外线灯功率:500瓦
紫外线均匀照射
电动紫外线灯移动
具有Microsoft Windows的基于PC的控制计算机
用户友好的控制软件 PC控制的CCD视频
紫外线灯曝光由电脑控制
占地面积:31英寸乘44英寸(780毫米乘1110毫米)
Nanonex Lumina-200, Lumina-200
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